[实用新型]一种用于磊晶基板的刻蚀机台有效

专利信息
申请号: 201821681825.4 申请日: 2018-10-17
公开(公告)号: CN208738197U 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 游张鑫;陈景瑞;方灿杰 申请(专利权)人: 福建汉晶光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 广州京诺知识产权代理有限公司 44407 代理人: 沈威
地址: 363300 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 通孔 基板 滑板 刻蚀 本实用新型 底端侧壁 固定机构 刻蚀机台 磊晶基板 刻蚀机 移动板 移动块 侧壁 人工手动调节 顶端安装 顶端侧壁 顶端焊接 对称设置 滑动连接 内部设置 人工误差 需求调节 对基板 海绵垫 弹簧 放入 夹紧 松弛 取出
【说明书】:

实用新型公开了一种用于磊晶基板的刻蚀机台,包括刻蚀机本体,刻蚀机本体包括第一通孔,第一通孔的底端侧壁设置有移动板,移动板的顶端焊接有对称设置的移动块,移动块相互靠近的一侧侧壁开设有第二通孔,第二通孔的内部设置有固定机构,固定机构包括滑动连接在第二通孔一侧侧壁的滑板,滑板的底端侧壁连接有海绵垫,滑板的顶端安装有与第二通孔顶端侧壁连接的弹簧。本实用新型能够对不同厚度的基板进行固定,便于对不同类型的基板进行刻蚀处理,能够根据需求对基板进行夹紧或松弛,便于工作人员进行取出或放入基板,而且能够根据刻蚀需求调节基板的位置,无需人工手动调节,避免了人工误差,提高了刻蚀精度。

技术领域

本实用新型涉及刻蚀技术领域,尤其涉及一种用于磊晶基板的刻蚀机台。

背景技术

刻蚀,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺。

激光刻蚀机在使用过程中,往往直接将基板放置在刻蚀槽内,然后通过激光在基板表面进行刻蚀,但基板在刻蚀过程中,无法根据刻蚀需求移动基板,移动都是需要人工手动进行移动,每次移动后,都需要进行重新定位,影响刻蚀精度,而且对基板的固定较为麻烦,为此,我们提出了一种用于磊晶基板的刻蚀机台。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于磊晶基板的刻蚀机台。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种用于磊晶基板的刻蚀机台,包括刻蚀机本体,所述刻蚀机本体包括第一通孔,第一通孔的底端侧壁设置有移动板,移动板的顶端焊接有对称设置的移动块,移动块相互靠近的一侧侧壁开设有第二通孔,第二通孔的内部设置有固定机构,固定机构包括滑动连接在第二通孔一侧侧壁的滑板,滑板的底端侧壁连接有海绵垫,所述滑板的顶端安装有与第二通孔顶端侧壁连接的弹簧,所述移动板的一侧侧壁开设有第一凹槽,第一凹槽的内部设置有调节机构,所述移动块的外侧壁连接有第一滑轮、第二滑轮,且第一滑轮、第二滑轮均与移动块垂直设置,所述移动板的两侧外壁连接有第三滑轮。

优选的,所述调节机构包括通过螺栓连接在第一凹槽侧壁的轴承座,轴承座的内部连接有转轴,转轴远离轴承座的一端延伸至第一凹槽外部焊接有转板,且转轴与转板之间垂直设置。

优选的,所述转轴的外侧壁焊接有绕线盘,绕线盘上开设有对称设置的绕线槽,绕线槽上连接有调节线,且两根所述调节线的绕线方向相反。

优选的,所述调节线远离绕线盘的一端依次穿过第三滑轮、第二滑轮、第一滑轮延伸至第二通孔内部与滑板顶端连接。

优选的,所述第一通孔的底端侧壁沿其长度方向开设有第二凹槽,第二凹槽的底端侧壁滑动连接有滑块,滑块的顶端与移动板的底端侧壁焊接。

优选的,所述刻蚀机本体的一侧外壁连接有推杆电机,推杆电机的输出轴延伸至第二凹槽内部与滑块侧壁连接。

本实用新型有益效果是:

1:通过设置的固定机构,能够对不同厚度的基板进行固定,便于对不同类型的基板进行刻蚀处理;

2:通过设置的调节机构,能够根据需求对基板进行夹紧或松弛,便于工作人员进行取出或放入基板;

3:通过设置的推杆电机、滑块之间的配合,能够根据刻蚀需求调节基板的位置,无需人工手动调节,避免了人工误差,提高了刻蚀精度;

本实用新型能够对不同厚度的基板进行固定,便于对不同类型的基板进行刻蚀处理,能够根据需求对基板进行夹紧或松弛,便于工作人员进行取出或放入基板,而且能够根据刻蚀需求调节基板的位置,无需人工手动调节,避免了人工误差,提高了刻蚀精度。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建汉晶光电科技有限公司,未经福建汉晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821681825.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top