[实用新型]一种可对基板进行温度调节的成膜设备

说明书

本实用新型公开了一种可对基板进行温度调节的成膜设备，该成膜设备包括液滴喷头、运动机构、固定在运动机构的运动台上的基板；所述成膜设备还设有对基板的温度进行调节的温度调节装置和控制成膜设备工作的中控单元；该温度调节装置包括升温装置和降温装置。本实用新型可以调节成膜过程的温度，包括升温和降温，以方便达到成膜所需的最佳温度，完成均匀沉积薄膜，图案成型的要求。

技术领域

本实用新型涉及一种微滴喷射成膜设备领域，具体涉及一种可对基板进行温度调节的成膜设备。

背景技术

在喷墨打印后，油墨功能溶质的均匀沉积对高精度图案的形成及所制备器件的性能与应用都非常重要。在喷墨打印过程中，不仅需要调节参数，控制液滴喷射的稳定状态，而且需要控制液滴沉积形貌。液滴成膜过程中，在溶质和溶剂确定的情况下，影响成膜过程的参数一般有温度和pH值等，CN107379804A公开的“一种大面积高均匀性薄膜喷墨打印方法及打印系统”，就是通过升温抑制咖啡环效应。若对这些参数进行调节以致达到最佳参数，并以这些最佳参数控制成膜过程，则可以很好的完成均匀沉积，并达到预期的图案成型要求。

一般成膜装置的温度调节装置只设有加热装置，但对于降温装置只是停止加热，但是这种方式不好控制且响应速度慢。

为此本实用新型提出具有升温装置和降温装置来调节成膜过程中的温度变化，使其逐渐均匀成膜或制作出复杂图像的成膜设备。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种可对基板进行温度调节的成膜设备，能够调节成膜过程中的温度参数，包括升温和降温，进而完成均匀沉积薄膜，图案成型的要求。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术解决方案是：

一种可对基板进行温度调节的成膜设备，该成膜设备包括液滴喷头、运动机构、固定在运动机构的运动台上的基板；所述成膜设备还设有对基板的温度进行调节的温度调节装置和控制成膜设备工作的中控单元；该温度调节装置包括升温装置和降温装置。

具体地，所述升温装置为环形电热丝栅，该环形电热丝栅位于所述基板正下方排列，并与所述中控单元相连。

具体地，所述降温装置为液氮供应装置；所述运动台的下方设有腔室，该液氮供应装置与腔室的相连。

具体地，所述降温装置为水冷循环降温装置。

具体地，进一步设有存储液氮的反应腔和空压机，该反应腔连接在所述液氮供应装置的出口与所述腔室的液氮进口之间；该反应腔和该空压机之间设有连接二者的管道。

具体地，进一步设置有过滤装置，该过滤装置设于所述腔室的液氮出口与所述液氮供应装置的入口之间。

具体地，进一步还设有可检测基板温度的热敏传感器，

具体地，所述运动台的下方设有腔室，所述热敏传感器安装于该腔室内壁上。

具体地，所述的中控单元包括对各装置发布是否运行的命令的中央控制芯片、用于输入指令信息及显示监测数据并记录数据的控制面板及电连接各装置的驱动电路

采用上述方案后，由于本实用新型设置了可以对基板进行升温或降低的温度调节装置，从而能够调节成膜过程中的温度影响参数，对温度进行控制，使之达到成膜所需的最佳温度，进而完成均匀沉积薄膜或制作复杂图形的薄膜。

附图说明

图1是本实用新型所述成膜装置的整体结构图；

图2是本实用新型所述成膜装置的结构原理图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详述。