[实用新型]化学机械抛光系统及晶圆的后处理单元

权利要求书

1.一种晶圆的后处理单元，其特征在于，包括：

清洗模块，所述清洗模块包括驱动组件以及清洗组件，所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述清洗组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面喷射流体；

干燥模块，所述干燥模块用于对所述晶圆进行干燥，所述干燥模块与所述清洗模块并排布置且位于所述清洗模块的下游。

2.根据权利要求1所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，所述清洗模块还包括：

外壳，所述外壳内限定出工作腔，所述清洗组件设在所述工作腔内且可在竖直面内摆动，所述驱动组件用于对带动所述晶圆在竖直面内旋转；

驱动结构，所述驱动结构用于驱动所述清洗组件摆动。

3.根据权利要求2所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，所述驱动结构包括连接轴，所述连接轴水平延伸且绕其轴线可自转地设在所述工作腔内，所述清洗组件包括：

清洗杆，所述清洗杆连接在所述连接轴的自由端且在与所述连接轴垂直的平面内延伸；

导管，所述导管设在所述清洗杆上且朝向所述晶圆可喷出流体。

4.根据权利要求3所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，所述导管包括：

第一导管，所述第一导管用于朝向所述晶圆喷出液体，所述第一导管上设有兆声喷头，所述第一导管的位于所述兆声喷头下游的部分为石英管道；

第二导管，所述第二导管用于朝向所述晶圆喷出气体，所述第二导管的自由端设有喷嘴，所述喷嘴被构造成使朝向所述晶圆喷出的气体呈锥体形状或扇形。

5.根据权利要求1所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，所述晶圆的后处理单元包括多个所述清洗模块，多个所述清洗模块并排布置。

6.根据权利要求1所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，还包括：滚刷模块，所述滚刷模块被构造成可对所述晶圆进行滚刷清洗。

7.根据权利要求1所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，还包括：用于对所述晶圆进行兆声清洁的兆声模块。

8.根据权利要求1所述的晶圆的后处理单元，其特征在于，所述晶圆的后处理单元还包括固定框架，所述干燥模块和所述清洗模块并排设在所述固定框架内，所述固定框架上设有用于传输所述晶圆的清洗机械手。

9.一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括：

前端单元，所述前端单元用于存储和/或检测晶圆；

抛光单元，所述抛光单元包括多个用于对所述晶圆进行抛光的抛光模块，多个所述抛光模块并排布置，且至少一个所述抛光模块邻近所述前端单元设置；

根据权利要求1-8中任一项所述的晶圆的后处理单元，所述晶圆的后处理单元与所述抛光单元相对设置在所述前端单元的同一侧。

10.根据权利要求9所述的化学机械抛光系统，其特征在于，还包括：

第一翻转机构，所述第一翻转机构设在所述抛光单元和所述晶圆的后处理单元之间以将所述晶圆送入所述晶圆的后处理单元，所述第一翻转机构用于将所述晶圆由水平方向翻转至竖直方向；

中转机械手，所述中转机械手用于将所述晶圆由所述抛光单元取出后送入至所述第一翻转机构。

11.根据权利要求9所述的化学机械抛光系统，其特征在于，还包括第二翻转机构，所述第二翻转机构设在所述晶圆的后处理单元和所述前端单元之间以将所述晶圆送入所述前端单元内，所述第二翻转机构用于将所述晶圆由竖直方向翻转至水平方向。