[实用新型]用于掩模基板的装置或生产线有效

专利信息
申请号: 201821706659.9 申请日: 2018-10-19
公开(公告)号: CN209778978U 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 斯蒂芬·詹姆斯·戴蒙德;周泽锋;吕海明;安德鲁·道格拉斯·皮尔森·格林;夏兰·约瑟夫·威尔森 申请(专利权)人: P2I有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04
代理公司: 44202 广州三环专利商标代理有限公司 代理人: 王基才
地址: 英国牛津郡艾*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 掩模材料 突片 基板 本实用新型 供给过程 掩模基板 掩模机构 施加 覆盖
【说明书】:

实用新型公开了一种用于掩模基板的装置或生产线,装置或生产线包括:供给的基板;供给的突片;供给的掩模材料;以及掩模机构,用于将掩模材料和突片施加到供给过程中的基板上,其中掩模材料覆盖突片,且突片突出超过掩模材料。

技术领域

本实用新型涉及基板的掩模,特别地并非排他地,本实用新型涉及一种用于掩模和/或去掩模基板的装置、掩模基板和掩模中使用的突片。

背景技术

当对物品表面进行修饰时,例如,通过气相沉积将涂层涂覆到物品上,通常需要掩模物品,使得物品表面的一部分不被修饰。例如,掩模可能很重要,如果将涂层施加到物品上,物品的一部分将失去其期望的功能或美感。

在掩模方面有特别关注的技术领域是使用气相沉积工艺涂覆电子设备或部件。虽然在这些设备或部件上涂覆涂层可以带来很多好处,例如,液体排斥性(例如参见申请人的WO 2007/083122),设备或部件的部分可能会从未涂覆的残留部分受益。这些部件可包括但不限于电触头,外表面和屏幕。如果在涂覆期间没有有效地掩模,这些部件的功能或美感则可能会受到影响。

然而,气相沉积在掩模的背景下带来特别的挑战。例如,等离子体辅助气相沉积,例如等离子体聚合,提供特殊的渗透性,使得甚至相对难以接近的表面被有效地涂覆。虽然这在许多情况下具有优势,但这意味着需要高效的掩模来封住不需要涂覆的物品的一部分。

合适的保形和粘附掩模,特别是原位固化的掩模,经常存在难以去除的缺点。这特别适用仅掩模诸如电触点的小区域的情况。

例如在表面改性过程之前,本领域仍然需要有效和方便地对基板进行掩模。

本实用新型的目的是促进物品的掩模和去掩模。

实用新型内容

第一方面,本实用新型提供了一种掩模基板的方法,该方法包括:将掩模材料和突片施加到基板上,其中掩模材料覆盖突片的支脚,且突片的一个支腿突出超过掩模材料。

以这种方式,便于去除掩模材料,因为可以抓住突出的突片以拉出覆盖的掩模材料。

适当地,这种方法可以包括施加突片,其中支脚相对于基板定位突片。方便地,当施加时,支脚可以放置在基板或掩模材料上或靠着基板或掩模材料。

可有利地施加掩模材料以基本覆盖整个支脚。有利地,掩模材料可以施加到支脚的下方,即在基板和支脚之间。

突片的支腿可以从支脚延伸以突出超过掩模材料。适当地,支脚可以是突片突出超过掩模材料的唯一部分。

支腿可以从支脚处以任何合适的角度延伸。有利地,支腿可以从支脚横向延伸。在各种实施例中,支腿可以以5至185度的角度范围延伸到支脚,例如,在20至160度的范围内,或甚至在30至150度的范围内延伸到支脚。有利地,支腿可以从支脚基本上垂直地延伸。这有助于将突片放置在支脚上。

突片可有利地包括接合形成部,以帮助将掩模材料附接到突片。特别地,突片可以施加有从支脚延伸到掩模材料中的接合形成部。方便地,支脚可终止于接合形成部,以增强与覆盖的掩模材料的接合。适当地,接合形成部可包括横向延伸的元件,例如钩等。方便地,支腿可以从支脚的第一端延伸,接合形成部可以从支脚的相对的第二端延伸。

突片可以方便地是整体的,即形成为单件。

方便地,突片可包括片材或材料网,例如已被弯曲或模制的条带。

有利地,突片可包括一个或多个弯曲部,该弯曲部限定支脚和支腿之间的边界,以及限定支脚和存在的接合形成部之间的边界。

突片可包括与其被夹持功能相一致的任何合适的材料。有利地,突片可包括柔性材料。这可以促进掩模材料的剥离去除,如下所述。有利地,柔性材料可允许支腿相对于支脚弯曲。

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