[实用新型]一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201821741308.1 申请日: 2018-10-26
公开(公告)号: CN211005588U 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 崔木岚 申请(专利权)人: 河北诺丹镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 056800 河北省邯*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 共同 溅射 技术 真空镀膜 装置
【权利要求书】:

1.一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,包括电机(1)、螺杆(2)、镀膜区(3)、靶材(4)、上料区(5)、离子源(6)、真空泵(7)、箱门(8)、样品台(9)、吸音器(10)、车轮(11)、滚轮(12)、轨道(13)、收料车(14)、从动伞齿轮(15)、箱体(16)、直齿轮(17)、主动伞齿轮(18)、光杆(19)和密封垫(20),其特征在于:所述电机(1)通过联轴器固定连接在箱体(16)上开设的通孔中,联轴器穿过通孔伸入箱体(16)内腔,联轴器另一端与齿轮轴的一端可拆卸连接,齿轮轴上安装主动伞齿轮(18),主动伞齿轮(18)与从动伞齿轮(15)啮合,每根螺杆(2)上设有相互啮合的直齿轮(17),螺杆(2)转动安装在样品台(9)上,样品台(9)左侧为镀膜区(3),样品台(9)右侧为上料区(5),螺杆(2)旁边设置有光杆(19),光杆(19)与螺杆(2)设置在同一平面上,且间隔分布,最外侧均为光杆(19),齿轮盒设置在箱体(16)内腔,并焊接在样品盒上,所述样品台的底部设有分布在传送模块两侧的滚轮(12),箱体(16)的底面设置有与该滚轮(12)配合的两条轨道(13),传送模块下方以及两条轨道(13)之间为收料车(14)通道,所述箱体(16)上固定连接若干个均匀分布的靶材(4),靶材(4)放置在电机右侧,靶材(4)右侧,位于箱体(16)上固定连接离子源(6),离子源(6)穿过箱体(16)作用在箱体(16)内腔,离子源(6)右侧,位于箱体(16)上表面固定连接真空泵(7),真空泵(7)通过泵管与箱体(16)上开设的通孔连通,箱体(16)右侧开设有矩形的通孔,箱门(8)通过合页转动连接在通孔的侧边上,箱门(8)的中间内壁上设置有一层密封垫(20),箱体(16)底部固定连接四个车轮(11),箱门(8)左侧放置一个吸音器(10),吸音器(10)固定连接在箱体(16)底部。

2.根据权利要求1所述的一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,其特征在于:所述联轴器下端设置有锁紧机构。

3.根据权利要求1所述的一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,其特征在于:所述螺杆(2)为φ20-40mm的螺杆(2),光杆(19)为φ15-25mm的光杆,光杆(19)与螺杆(2)之间间隔25-35mm。

4.根据权利要求1所述的一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,其特征在于:所述箱体(16)与联轴器之间安装有动密封机构。

5.根据权利要求1所述的一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,其特征在于:所述样品台(9)、螺杆(2)和光杆(19)均为304不锈钢。

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