[实用新型]一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置有效
申请号: | 201821741308.1 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN211005588U | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 崔木岚 | 申请(专利权)人: | 河北诺丹镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 056800 河北省邯*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 共同 溅射 技术 真空镀膜 装置 | ||
本实用新型公开了一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,包括样品台、传送模块、电机、第一传动连接件和第二传动连接件,所述传送模块安装在样品台上,用于将样品从上料区传送至镀膜区,电机固定连接在箱体外部,电机通过联轴器与第一传动连接件一端固定连接,另一端与传送模块可拆卸传动连接,所述螺杆的螺纹作为物料槽,光杆安装在样品台上位于螺杆两侧以共同支撑物料,所述第二传动连接件,一端与螺杆传动连接,另一端与第一传动连接件无拆卸传动连接,本实用新型能够实现一次型多面镀膜,镀膜过程中,无需翻面处理,减少重新开箱和重新抽真空的时间,提高了镀膜效率。
技术领域
本实用新型是一种镀膜装置,具体是一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置。
背景技术
真空镀膜是一个特殊的领域,需要在真空的环境下对产品进行镀膜防护,真空镀膜相对于传统的电镀、化学镀等技术,具有零排放、零污染的优点,越来越受到企业的青睐,并将逐渐取代电镀、化学镀等工艺,但真空镀设备的造价成本高、自动化程度低、以及维护难等问题限制了它的工业应用。
常用的真空镀膜传送机构为行星轮结构和皮带轮结构。行星轮结构的镀膜装置,膜层的均匀性较好,但镀膜时,需机械手翻转,操作不便且镀膜样品数量有限,皮带轮装置一次可传输多列样品,但结构复杂易卡死,维护较难,且现有真空镀膜装置相对笨重,移动设备较为困难。
实用新型内容
本实用新型通过提供一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置来解决现有技术在实践中存在的不足。
为了实现上述的目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,包括电机、螺杆、镀膜区、靶材、上料区、离子源、真空泵、箱门、样品台、吸音器、车轮、滚轮、轨道、收料车、从动伞齿轮、箱体、直齿轮、主动伞齿轮、光杆和密封垫,所述电机通过联轴器固定连接在箱体上开设的通孔中,联轴器穿过通孔伸入箱体内腔,联轴器另一端与齿轮轴的一端可拆卸连接,齿轮轴上安装主动伞齿轮,主动伞齿轮与从动伞齿轮啮合,每根螺杆上设有相互啮合的直齿轮,螺杆转动安装在样品台上,样品台左侧为镀膜区,样品台右侧为上料区,螺杆旁边设置有光杆,光杆与螺杆设置在同一平面上,且间隔分布,最外侧均为光杆,齿轮盒设置在箱体内腔,并焊接在样品盒上,所述样品台的底部设有分布在传送模块两侧的滚轮,箱体的底面设置有与该滚轮配合的两条轨道,传送模块下方以及两条轨道之间为收料车通道,所述箱体上固定连接若干个均匀分布的靶材,靶材放置在电机右侧,靶材右侧,位于箱体上固定连接离子源,离子源穿过箱体作用在箱体内腔,离子源右侧,位于箱体上表面固定连接真空泵,真空泵通过泵管与箱体上开设的通孔连通,箱体右侧开设有矩形的通孔,箱门通过合页转动连接在通孔的侧边上,箱门的中间内壁上设置有一层密封垫,箱体底部固定连接四个车轮,箱门左侧放置一个吸音器,吸音器固定连接在箱体底部。
作为本实用新型进一步的方案:所述联轴器下端设置有锁紧机构。
作为本实用新型再进一步的方案:所述螺杆为φ20-40mm的螺杆,光杆为φ15-25mm的光杆,光杆与螺杆之间间隔25-35mm。
作为本实用新型再进一步的方案:所述箱体与联轴器之间安装有动密封机构。
作为本实用新型再进一步的方案:所述样品台、螺杆和光杆均为304不锈钢。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型提供一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置,可实现依次多面镀膜,无需翻面,减少由于开箱和再次抽真空所浪费的时间,提高了镀膜效率,装置底部设置有车轮,方便对真空镀膜装置进行挪动,且整体结构简单、镀膜效率高,吸音器的设置可以有效的减少设备工作所产生的噪音。
附图说明
通过阅读参考以下附图对非限制性实施例所做的详细描述,本实用新型的其他特征和优点将会更加明显:
图1为实用新型一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置的结构示意图;
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