[实用新型]扇出型天线封装结构有效
申请号: | 201821755416.4 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN208806245U | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 陈彦亨;林正忠 | 申请(专利权)人: | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L21/56;H01L23/498;H01Q1/22 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 214437 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 重新布线层 天线封装 扇出型 半导体芯片 金属布线层 天线结构 电连接 封装层 堆叠设置 金属凸块 通孔 多层天线结构 本实用新型 结构性能 整合性 包覆 底面 两层 侧面 | ||
本实用新型提供一种扇出型天线封装结构,扇出型天线封装结构包括:重新布线层,重新布线层包括相对的第一面及第二面;堆叠设置的至少两层天线结构,天线结构位于重新布线层的第二面上,与重新布线层中的金属布线层电连接;半导体芯片,位于重新布线层的第一面上,半导体芯片的正面与重新布线层电连接;封装层,封装层包覆半导体芯片的侧面及底面,封装层中包括显漏金属布线层的通孔;金属凸块,金属凸块通过通孔与金属布线层电连接。可降低生产成本,形成堆叠设置的具有多层天线结构及高整合性的扇出型天线封装结构;通过位于重新布线层两侧的天线结构及半导体芯片,提高扇出型天线封装结构性能。
技术领域
本实用新型属于半导体封装技术领域,涉及一种扇出型天线封装结构。
背景技术
更低成本、更可靠、更快及更高密度的电路是集成电路封装追求的目标。在未来,集成电路封装将通过不断减小特征尺寸来提高各种电子元器件的集成密度。目前,常用的封装方法包括:晶圆级芯片规模封装(Wafer Level Chip Scale Packaging,WLCSP),扇出型晶圆级封装(Fan-Out Wafer Level Package,FOWLP),倒装芯片(Flip Chip),叠层封装(Package on Package,POP)等等。其中,FOWLP由于其输入/输出端口(I/O)较多、集成灵活性较好,已成为目前较为常用的封装方法之一。
随着高科技电子产品的普及以及人们需求的增加,特别是为了配合移动的需求,大多高科技电子产品都增加了无线通讯的功能。
一般来说,现有的天线结构通常是将天线直接制作于电路板的表面,这种做法会让天线占据额外的电路板面积,整合性较差、成本较高。对于各种高科技电子产品而言,若将天线直接制作于电路板的表面,将需要具有较大体积的电路板,从而使得高科技电子产品也占据较大的体积,这与人们对高科技电子产品的小型化、便捷式的需求相违背,因此,如何减小天线封装结构的体积、提高天线封装结构的整合性能及降低生产成本,将是这些电子装置所需克服的问题。
鉴于此,有必要设计一种新型的扇出型天线封装结构,用于解决天线封装结构的上述问题。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种扇出型天线封装结构,用于解决现有技术中天线封装结构体积大、整合性能低及生产成本高的封装问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供提供一种扇出型天线封装结构,所述封装结构包括:
重新布线层,所述重新布线层包括相对的第一面及第二面;
堆叠设置的至少两层天线结构,所述天线结构位于所述重新布线层的第二面上,与所述重新布线层中的金属布线层电连接;
半导体芯片,位于所述重新布线层的第一面上,所述半导体芯片的正面与所述重新布线层电连接;
封装层,所述封装层包覆所述半导体芯片的侧面及底面,所述封装层中包括显漏所述金属布线层的通孔;
金属凸块,所述金属凸块通过所述通孔与所述金属布线层电连接。
可选地,所述重新布线层的第二面上包括堆叠设置的N层所述天线结构,其中N≥3。
可选地,所述扇出型天线封装结构的翘曲度的范围包括0.1mm~3.0mm。
可选地,所述天线结构的厚度的范围包括50μm~1000μm。
可选地,所述天线结构包括天线金属连接柱、天线封装层及天线金属层。
可选地,所述天线封装层覆盖所述天线金属连接柱且显漏所述天线金属连接柱的上表面,所述天线金属层位于所述天线封装层的上表面与所述天线金属连接柱电连接。
可选地,所述封装层及所述天线封装层包括环氧塑封层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯长电半导体(江阴)有限公司,未经中芯长电半导体(江阴)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821755416.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。