[实用新型]一种化学气相沉积反应器

说明书

本实用新型涉及一种化学气相沉积反应器，包括外壳体以及外壳体前表面通过铰链铰接有装置门，所述外壳体内部底表面的上方焊接有连接块，所述连接块的上方一体成型有工作台，所述工作台异于所述连接块的一侧设置有夹持组件，所述夹持组件包括卡槽和固定块，所述工作台的上表面开设有卡槽，该化学气相沉积反应器，通过外壳体内部的夹持组件，夹持组件上设置的固定块和夹块等结构，可将需要进行气相沉淀反应的石墨块夹持住，并悬浮在空中，使得石墨块底部表面也可与通入的气体充分反应，防止由于气孔分布的局限性，导致石墨块底部的某些表面未能与气体充分的反应，从而得到品级较差产品的情况发生。

技术领域

本实用新型涉及无机非金属材料制备技术领域，具体为一种化学气相沉积反应器。

背景技术

化学气相沉积反应器，作为在无机非金属材料制备技术领域常见的辅助器械，随着现代经济技术的进步和发展，也在不断地更新和进步，化学气相沉积反应器常用在PECVD设备的生产工作过程中，然而，现有技术的化学气相沉积反应器在使用的过程中存在一些技术缺陷，例如，现有的技术中需要提供苛刻的环境条件，才能沉积出高质量的碳化硅涂层，且出气口的排气效果不佳，这种工业化大规模沉积碳化硅涂层的反应装置鲜有报道。

虽然现有的一些技术对上述问题进行了改进，但是改进之后的化学气相沉积反应器依旧存在着一些问题，例如，申请号：201621037771.9所公开的一种化学气相沉积反应器，在内部设有放置台以及底部的支架上设有孔洞使得放置在上面的石墨块充分与气体更好的反应，此种改进虽然解决了复杂环境下石墨块不能与气体很好的反应的情况，但由于气孔分布的局限性，导致石墨块底部的某些表面未能与气体充分的反应，从而得到品级较差的产品，降低了产品质量。

公开的一种化学气相沉积反应器虽然在顶部设置有气体分布器，使得气体分散的均匀并散出，但由于气体的自身的性质，在自然状态下，无法通过出气孔扩散的较快，需要耗费大量的时间，不利于化学气相沉积反应器快速的进行二次使用。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种化学气相沉积反应器，具备产品质量高、气体扩散出出气口的速度快、便于操作使用等优点，解决了产品质量不高、气体扩散出出气口的速度不快、不便于操作使用的问题。

为实现上述产品质量高、气体扩散出出气口的速度快、便于操作使用的目的，本实用新型提供如下技术方案：一种化学气相沉积反应器，包括外壳体以及外壳体前表面通过铰链铰接有装置门，所述外壳体内部底表面的上方焊接有连接块，所述连接块的上方一体成型有工作台，所述工作台异于所述连接块的一侧设置有夹持组件，所述夹持组件包括卡槽和固定块，所述工作台的上表面开设有卡槽，所述卡槽的上方设置有固定块，固定块的一侧焊接有卡块，所述固定块通过所述卡块卡合于所述卡槽内，所述外壳体的下方设置有排气组件，所述排气组件包括电机，所述电机与所述外壳体通过螺栓固定连接在一起，所述电机与电源电性连接。

优选的，所述夹持组件还包括旋钮和夹块，所述卡块的上方设置有旋钮，所述卡块与所述工作台通过旋钮固定连接，所述固定块的一侧焊接有方形块，方形块异于所述固定块的一端焊接有夹块。

优选的，所述排气组件还包括风扇和转杆，所述电机的输出端设置有转杆，转杆的一端转接进所述电机的输出端内，另一端通过螺纹旋合连接有风扇。

优选的，所述卡槽内部的底表面开设有孔洞，孔洞内设置有纹路，旋钮的一端焊接有螺杆，螺杆上设置有纹路，且螺杆上的纹路与孔洞内的纹路相契合。

优选的，所述装置门的前表面上焊接有把手，把手下方的一侧设置有U形搭块，U形搭块和所述装置门通过螺丝固定连接。

优选的，所述外壳体前表面靠近装置门的位置焊接有衔接块，所述衔接块的一侧设置有L形杆，L形杆的一端设置有转钮，L形杆通过转钮与衔接块固定连接，另一端搭接在U形搭块和所述装置门形成的方槽内。