[实用新型]一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置有效
申请号: | 201821759270.0 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN209183510U | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 厉惠宏;胡晓光;徐继东 | 申请(专利权)人: | 浙江金瑞泓科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 宋缨;孙健 |
地址: | 315800 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 上端 吸盘 高转速电机 真空罩杯 清洗腔 驱动轴 硅片 底罩 转动装置 排水罩 刷片机 工作台 转动 本实用新型 抽真空设备 输出轴连接 硅片表面 减速装置 控制摆杆 控制圆盘 人工成本 上下升降 升降气缸 竖直安装 旋转气缸 圆盘刷 腔体 竖直 吸住 相配 轴带 清洗 损伤 自动化 穿过 | ||
1.一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置,包括工作台(2)、清洗腔底罩(4)和升降台(13),其特征在于:所述的工作台(2)的上端安装有清洗腔底罩(4),该清洗腔底罩(4)上端安装有清洗腔排水罩(5),所述的清洗腔排水罩(5)上端中部安装有真空罩杯(19),所述的清洗腔底罩(4)内竖直安装有高转速电机(15),该高转速电机(15)上端的输出轴连接有驱动轴(20),所述的驱动轴(20)的上端竖直穿过真空罩杯(19)与吸盘(7)相连,该驱动轴(20)内设置有连接吸盘(7)与真空罩杯(19)腔体的管路(21),所述的真空罩杯(19)一侧开有与抽真空设备相连的接口(22),所述的高转速电机(15)一侧设置有相配的减速装置,所述的工作台(2)的上端位于清洗腔底罩(4)的一侧竖直安装有摆杆轴座(10),该摆杆轴座(10)内安装有上下运动的摆杆轴(11),所述的摆杆轴(11)的上端一侧竖直安装有刷毛电机(9),该刷毛电机(9)下端的输出轴上安装有圆盘刷(8),所述的工作台(2)下方通过导杆(25)与底板(26)相连,该底板(26)的下端中部竖直安装有升降气缸(14),所述的升降气缸(14)的活塞杆穿过底板(26)与升降台(13)相连,该升降台(13)的两侧套接在导杆(25)中部,所述的升降台(13)上端安装有与摆杆轴(11)下端相连的旋转气缸(12)。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置,其特征在于:所述的减速装置包括减速电机(1)、主动带轮(16)和从动带轮(24),所述的高转速电机(15)一侧安装有减速电机(1),该减速电机(1)的输出轴上安装有主动带轮(16),所述的主动带轮(16)通过皮带(23)与高转速电机(15)输出轴安装的从动带轮(24)相连。
3.根据权利要求1所述的一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置,其特征在于:所述的清洗腔排水罩(5)的上端安装有清洗腔排风罩(6),该清洗腔排风罩(6)一侧设置有排风通道(18),所述的排风通道(18)一端与清洗腔底罩(4)一侧设置的排风管(3)相连。
4.根据权利要求3所述的一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置,其特征在于:所述的清洗腔排风罩(6)的上端安装有清洗腔挡水罩(27),该清洗腔挡水罩(27)的上方一侧设置有喷水管(17)。
5.根据权利要求1所述的一种用于硅片刷片机的刷洗转动装置,其特征在于:所述的清洗腔排水罩(5)的底部接有漏水管(28)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造