[实用新型]一种配备旋转辅助阳极的中空镀膜机腔体

说明书

本实用新型公开了一种配备旋转辅助阳极的中空镀膜机腔体，包括腔体壳层、离化源法兰、辅助阳极旋转轨道、转架拨盘、支撑转架底座、转架主轴、辅助阳极绝缘层、辅助阳极旋转轴、辅助阳极旋转珠部件、转架转盘、转架支撑底座和转架主轴拨盘。本实用新型通过对腔体结构和转架结构的改造，为特定工件难以通镀通孔在公转状态下提供辅助阳极，提高特定工件通孔镀膜深径比，从而使得特定工件在一定的尺寸范围内增加了内孔通镀的可能性。

技术领域

本实用新型涉及PVD多弧离子镀表面处理技术领域，尤其涉及一种配备旋转辅助阳极的中空镀膜机腔体，为工件通孔内配备旋转辅助阳极，提高PVD管筒状工件孔内镀膜深径比。

背景技术

PVD多弧离子镀是目前机械加工应用最为广泛的表面处理技术之一，其高离化率、良好结合力的特点，使得此技术在现今的工业生产中仍具有不可替代的地位，PVD多弧离子镀技术采用弧光放电，将阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电使靶材蒸发，在真空条件下通入工作气体，从而在空间内形成等离子体，对基体工件沉积薄膜。

现如今，PVD多弧离子镀在工件外表面的薄膜沉积技术已经在工业生产中得到了广泛应用,如刀具、冲压模具等，不但节约了生产成本，降低了原材料的损耗及环境污染，并且取得了巨大的经济效益。但是,在工业生产中以内表面为工作面的工件也同样拥有镀膜需求,如发动机缸筒、内孔模具、轴套和凹模等。此类工件以内表面为服役工作面，经常因内壁磨损、腐蚀等形式遭到破坏,降低了其工作效率和使用寿命。但受多弧离子镀技术自身的局限，通常小孔径工件通孔的镀膜深径比仅为1:1，目前关于PVD内壁沉积薄膜的相关技术已经通过向孔内配备辅助阳极实现了镀膜深径比的提高，甚至在一定尺寸范围内实现了通镀，但是此技术现仅基于大尺寸工件使用，或者是将管状工件直接作为腔体，对于小尺寸不同种类工件同炉内同时配备辅助阳极生产的方式较为难以实现，因此本实用新型专利设计了一种能够为不同种类工件在同炉生产时按需求分别提供辅助阳极的腔体。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种配备旋转辅助阳极的中空镀膜机腔体。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种配备旋转辅助阳极的中空镀膜机腔体，包括腔体壳层、离化源法兰、辅助阳极旋转轨道、转架拨盘、支撑转架底座、转架主轴、辅助阳极绝缘层、辅助阳极旋转轴、辅助阳极旋转珠部件、转架转盘、转架支撑底座和转架主轴拨盘。

优选地，所述腔体壳层和离化源法兰内布有循环水冷夹层，为腔体提供冷却，所述腔体壳层内的腔体关闭大门后，所述腔体壳层整体为圆柱型。

优选地，所述辅助阳极旋转轨道焊接在腔体壳层上，所述腔体壳层内的腔体大门关闭后，所述辅助阳极旋转轨道形成圆形连续轨道。

优选地，所述腔体壳层内的腔体内设有转架，所述支撑转架底座与转架支撑底座对接，所述转架拨盘的两柱体拨叉卡入转架主轴拨盘，所述减速机转动转架拨盘，所述转架拨盘拨动转架主轴拨盘，所述转架主轴带动转架转盘及辅助阳极旋转轴转动。

优选地，所述辅助阳极旋转珠部件固定在辅助阳极旋转轴上，调节合适的距离，所述辅助阳极旋转珠部件的转珠进入辅助阳极旋转轨道与之连接并带动旋转。

优选地，所述辅助阳极绝缘层使辅助阳极旋转轴与转架主轴绝缘，所述转架拨盘与腔体壳层绝缘，所述转架转盘内部绝缘结构使转架转盘与转架支撑底座绝缘。

优选地，所述偏压电源阳极接在腔体壳层上，偏压电源阴极通过转架拨盘接在转架上，辅助阳极旋转轴与腔体壳层连接从而提供旋转辅助阳极，通过辅助阳极绝缘层使辅助阳极旋转轴与转架主轴绝缘。

优选地，所述辅助阳极旋转轴上可配备各种固定阳极辅助件将阳极引入工件内孔，所述工件与阴极转架相连。

本实用新型具有以下有益效果；