[实用新型]一种吸气剂薄膜的加工衬底有效
| 申请号： | 201821857876.8 | 申请日： | 2018-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN208970477U | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 甘先锋;杨水长;杨秀武 | 申请（专利权）人： | 烟台艾睿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J7/18 | 分类号： | H01J7/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 264006 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吸气剂 薄膜 衬底基板 硬掩膜 镂空槽 衬底 加工 本实用新型 吸气 剥离工艺 薄膜加工 划片工艺 加工周期 减少设备 连接关系 蚀刻工艺 低成本 高效化 覆盖 光刻 开孔 量产 避开 环保 | ||
【权利要求书】：
1.一种吸气剂薄膜的加工衬底，其特征在于，包括：
衬底基板；所述衬底基板设有多组镂空槽，每组镂空槽围成的区域内设有多个吸气剂端子；
覆盖在所述衬底基板上的硬掩膜版；所述硬掩膜版设有多个开孔，使上述每组镂空槽围成的区域不被硬掩膜版覆盖。
2.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述衬底基板为不锈钢板、玻璃片或陶瓷片。
3.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述衬底基板的厚度为0.02mm～1mm。
4.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述衬底基板的表面设有多个不穿透衬底基板的细孔。
5.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述吸气剂端子的尺寸为0.5mm～5mm，形状为圆形、矩形或环形。
6.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述硬掩膜为不锈钢板。
7.根据权利要求1所述的加工衬底，其特征在于，所述硬掩膜版的厚度为0.02mm～0.5mm。
8.根据权利要求1～7任一项所述的加工衬底，其特征在于，还包括：
放置所述衬底基板的托盘；
设置在所述硬掩膜版上的纽扣磁铁，用于固定依次叠放的托盘、衬底基板和硬掩膜版。
9.根据权利要求8所述的加工衬底，其特征在于，所述纽扣磁铁的个数为2个～8个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于烟台艾睿光电科技有限公司，未经烟台艾睿光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821857876.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种FC回路集成装置
- 下一篇：离子源和等离子体处理设备
