[实用新型]一种高导通效率的碳化硅二极管有效
申请号: | 201821879772.7 | 申请日: | 2018-11-14 |
公开(公告)号: | CN208923151U | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 赵喜高 | 申请(专利权)人: | 深圳市可易亚半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06 |
代理公司: | 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 | 代理人: | 谭雪婷;高早红 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化硅二极管 下端 高导 电极 深体 金属 单晶碳化硅 开关效率 衬底 下层 能耗 上层 本实用新型 内部填充 导通 | ||
1.一种高导通效率的碳化硅二极管,包括一号电极(1),其特征在于:所述一号电极(1)的下端设置有金属上层(3),所述金属上层(3)的下端设置有N型外延层(4),所述N型外延层(4)的内部填充有P型单晶碳化硅(5),所述P型单晶碳化硅(5)的下端设置有深体区(6),所述N型外延层(4)的下端设置有N型衬底(7),所述N型衬底(7)的下端设置有金属下层(8),所述金属下层(8)的下端设置有二号电极(2)。
2.根据权利要求1所述的一种高导通效率的碳化硅二极管,其特征在于:所述深体区(6)为P型深体区,所述深体区(6)可为一号多晶硅层(9)或二号多晶硅层(10),所述一号多晶硅层(9)和二号多晶硅层(10)均设置在P型单晶碳化硅(5)的外表面。
3.根据权利要求1所述的一种高导通效率的碳化硅二极管,其特征在于:所述深体区(6)分别设置在P型单晶碳化硅(5)的两侧,且深体区(6)的数量为六组。
4.根据权利要求1所述的一种高导通效率的碳化硅二极管,其特征在于:所述N型外延层(4)的内部开设有凹槽,所述P型单晶碳化硅(5)安装在凹槽的内部。
5.根据权利要求2所述的一种高导通效率的碳化硅二极管,其特征在于:所述一号多晶硅层(9)为一种高浓度掺杂多晶硅层。
6.根据权利要求2所述的一种高导通效率的碳化硅二极管,其特征在于:所述二号多晶硅层(10)为一种P型掺杂多晶硅层。
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