[实用新型]一种扩散用的喷淋管及扩散炉有效
申请号: | 201821882869.3 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN208861951U | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 刘志强;严健;袁中存;费正洪 | 申请(专利权)人: | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/223;H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 224431 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷淋管 喷淋孔 喷淋段 扩散炉 本实用新型 扩散 太阳能电池制备 气体流动方向 太阳能电池片 进气装置 均匀扩散 炉内气体 一端封闭 管体沿 进气端 均匀性 硅片 方阻 管体 连通 保证 | ||
1.一种扩散用的喷淋管,所述喷淋管一端为封闭端,另一端为进气端并与进气装置连通,其特征在于,所述喷淋管包括管体(1),所述管体(1)沿气体流动方向设有至少两个喷淋段,每个所述喷淋段设置有一个或至少两个喷淋孔总成,每个所述喷淋孔总成包括一个喷淋孔或位于同一截面的至少两个喷淋孔;
沿气体流动方向,相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成之间的间距逐渐减小,和/或
相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成的所述喷淋孔孔径逐渐增大,和/或
相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成的所述喷淋孔数量逐渐增多,和/或
相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成的数量逐渐增多。
2.根据权利要求1所述的喷淋管,其特征在于,相邻的两个所述喷淋孔总成之间的间距为相邻两个所述喷淋孔总成的所述喷淋孔所在截面之间的距离。
3.根据权利要求1所述的喷淋管,其特征在于,相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成之间的间距沿着气体流动方向呈等差数列进行设置。
4.根据权利要求1所述的喷淋管,其特征在于,相邻的两个所述喷淋段的所述喷淋孔总成的所述喷淋孔的孔径沿着气体流动方向采用等差数列设置。
5.根据权利要求1所述的喷淋管,其特征在于,所述喷淋孔的中心轴线均沿着管体(1)的径向设置。
6.根据权利要求5所述的喷淋管,其特征在于,所述喷淋孔总成的相邻的两个所述喷淋孔的中心轴线之间的夹角为10-60°。
7.根据权利要求1所述的喷淋管,其特征在于,同一所述喷淋段上,相邻的两个所述喷淋孔总成的所述喷淋孔一一对应设置。
8.如权利要求1-7任一项所述的喷淋管,其特征在于,所述喷淋孔为锥形孔,所述喷淋孔的孔径沿着所述管体(1)的径向由内而外逐渐增大。
9.一种扩散炉,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的喷淋管。
10.根据权利要求9所述的扩散炉,其特征在于,所述扩散炉(2)的内炉壁上设有挂钩(21),所述挂钩(21)的外围设有定位凸起(211),所述喷淋管的管体(1)外壁上开设有定位槽(14),通过所述定位凸起(211)与所述定位槽(14)的卡合,所述喷淋管架设于所述挂钩(21)上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造