[实用新型]一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板有效
| 申请号： | 201821903870.X | 申请日： | 2018-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN209400853U | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 严峰;蔡亮 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻机 散光 雾化 镜头 本实用新型 扫描曝光 图形组合 掩膜板 线宽 扫描电子显微镜 机台 光刻机镜头 产品品质 尺寸标准 分布趋势 漏光性能 有效监控 整体规划 自动测量 最大曝光 变化量 最大化 监控 使用率 多列 晶圆 掩膜 保养 兼容 曝光 安全 维护 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板，其特征在于，包括沿扫描曝光的X方向放置的多列图形组合，每列所述图形组合中包括多类不同形状的图形；
每列所述图形对应于一个透光率；
所述掩膜板经曝光后测量晶圆上所述不同形状图形的变化量，表征底部镜头的雾化散光程度和分布趋势。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上包括3列所述图形组合。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，每列所述图形组合中包括4类不同形状的所述图形。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，每类所述图形的线宽尺寸设计兼容各类光刻机的最小及最大的曝光尺寸标准。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板适用于硅片尺寸为200mm、300mm及450mm的所有尼康光刻机。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板的版图及所述尼康光刻机的底部镜头不限于特有设计及特有尺寸大小。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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