[实用新型]一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板

说明书

本实用新型提供一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板，涉及尼康光刻机镜头维护领域。尼康光刻机底部镜头实际受雾化散光影响主要集中在扫描曝光的X方向，本实用新型通过在扫描曝光的X方向放置多列图形组合，其中，每列图形组合中包括多类不同形状的图形，每类图形的线宽尺寸兼容各类光刻机的最小及最大曝光尺寸标准。该掩膜板经曝光后通过扫描电子显微镜自动测量晶圆不同形状、不同线宽尺寸的图形的变化量，表征底部镜头的雾化散光程度和分布趋势。本实用新型有效监控光刻机漏光性能稳定性，确保产品品质安全；同时，镜头周期使用率得到最大化，有利于机台保养整体规划。

技术领域

本实用新型涉及光刻机镜头维护领域，尤其涉及一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板。

背景技术

监控光刻机镜头的雾化散光程度的原理是在镜头开口或形状达到最大前提下，激光透过掩膜板后，漏出的散射光会激活主图形区域周围光刻胶，导致周围光刻胶变形甚至过曝光消失，根据不同尺寸图形，通过电子显微镜目检人为判断行变量并计算获得散射率。

尼康光刻机是利用球形镜头中央最窄最长的一段，进行Y方向扫描曝光。因此底部镜头实际受雾化散光影响在Y方向上几乎可以忽略不计，只有在X方向会受到影响。然而现有技术中，镜头区域在X方向上实际仅3个监控点，只能测定总体雾化散光率，无法测定镜头雾化散光分布趋势，且光刻胶形变是通过人为判断后计算，测量误差较大，对最终进行机台性能判断产生影响。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提出一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板，包括沿扫描曝光的X方向放置的多列图形组合，每列所述图形组合中包括多类不同形状的图形；

每列所述图形对应于一个透光率；

所述掩模板经曝光后测量晶圆上所述不同形状图形的变化量，表征底部镜头的雾化散光程度和分布趋势。

优选的，所述掩模板上包括3列所述图形组合。

优选的，每列所述图形组合中包括4类不同形状的所述图形。

优选的，每类所述图形的线宽尺寸设计兼容各类光刻机的最小及最大的曝光尺寸标准。

优选的，所述掩膜板适用于硅片尺寸为200mm、300mm及450mm的所有尼康光刻机。

优选的，所述掩膜板的版图及所述尼康光刻机的底部镜头不限于特有设计及特有尺寸大小。

本实用新型的有益效果是：通过实时有效监控尼康光刻机漏光性能稳定性，确保产品品质安全的同时，镜头周期使用率达到最大化，有利于机台保养整体规划。

附图说明

图1是本实用新型的较佳实施例中，所述尼康光刻机底部球形镜头扫描曝光示意图；

图2是本实用新型的较佳实施例中，所述掩膜板版图示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。本实用新型并不限定于该实施方式，只要符合本实用新型的主旨，则其他实施方式也可以属于本实用新型的范畴。

如图1所示，尼康光刻机是利用底部球形镜头中央最窄最长的一段，进行Y方向的扫描曝光。

本实用新型的较佳实施例中，提供一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板，包括沿扫描曝光的X方向放置的多列图形组合，每列图形组合中包括多类不同形状的图形；

每列图形对应于一个透光率；

掩模板经曝光后测量晶圆上不同形状图形的变化量，表征底部镜头的雾化散光程度和分布趋势。