[实用新型]一种管路清洗装置

说明书

本实用新型属于半导体制造领域，尤其涉及一种管路清洗装置，包括清洗槽，循环泵、待清洗管路、连接循环泵与清洗槽的第一连接管、连接循环泵与待清洗管路进口端的第二连接管、连接待清洗管路出口端与清洗槽的第三连接管，所述第一连接管、第二连接管和第三连接管上分别设置有第一控制阀、第二控制阀、第三控制阀，其特征在于：该清洗装置还包括设置于待清洗管路两端的反向进液管和反向出液管，所述反向进液管上设置于反向进液阀，所述反向出液管上设置有反向出液阀。

技术领域

本实用新型属于半导体制造领域，尤其涉及一种MOCVD机台尾管路清洗装置。

背景技术

现有的MOCVD机台在机台内部反应腔内会有MO源与相应气体进行反应，反应完成后部分反应物会随着尾排气体连同带入尾排管路，最终经过氨回收系统处理，但是此反应物随着气体在管道中流通的时候会在管壁上残留，时间长了之后会在管道内部形成结晶物，影响反应腔的正常排风，进而影响MOCVD正常生产。

故现定期对管道进行保养，需要对尾气管道进行清洗，进而保持管道畅通。而现有处理技术为，使用氢氧化钠、双氧水、水按照1:1:4的标准混合清洗液在清洗槽中浸泡反应约2H干净后再用清水冲洗一遍，之后使用压缩空气进行吹干后重新恢复至现场使用。管道清洗时间长，而且不容易清洗干净，造成MOCVD机台复机时间延长，进而影响该机台的生产及稳定性。

发明内容

为解决上述问题，本实用新型提供一种管路清洗装置，用于清洗MOCVD尾气管路中的残留物，其包括清洗槽，循环泵、待清洗管路、连接循环泵与清洗槽的第一连接管、连接循环泵与待清洗管路进口端的第二连接管、连接待清洗管路出口端与清洗槽的第三连接管，所述第一连接管、第二连接管和第三连接管上分别设置有第一控制阀、第二控制阀、第三控制阀，其特征在于：该清洗装置还包括设置于待清洗管路两端的反向进液管和反向出液管，所述反向进液管上设置于反向进液阀，所述反向出液管上设置有反向出液阀。

优选的，所述反向进液管的一端连接于第二控制阀与循环泵之间的第二连接管上。

优选的，所述反向进液管的另一端于连接于所述第三控制阀与待清洗管路出口端之间的第三连接管上。

优选的，所述反向出液管的一端连接于第二控制阀与待清洗管路进口端之间的第二连接管上。

优选的，所述反向出液管的另一端连接于所述第三控制阀与清洗槽之间的第三连接管上。

优选的，所述管路清洗装置还包括加热震动装置，所述加热震动装置设置于待清洗管路周围。

优选的，所述加热震动装置包括加热套件，设置于加热套件内部的制热组件以及设置于加热套件外部的震动组件。

优选的，所述制热组件的个数为2~8组。

优选的，所述待清洗管路为单个待清洗管路或者复数个通过接头连接后的待清洗管路。

优选的，所述清洗槽还设置有排水件。

本实用新型至少具备以下有益效果：

1、本实用新型使用泵体循环系统清洗管路，提升管路清洁效率。2、待清洗管路周围增设加热震动装置，极大的促进分子反应速率，加快管路清洗效率。3、本实用新型设计正、反清洗系统，极大的促进了反应效率，提高反应面积，加快清洗速率。

附图说明

图1为本实用新型具体实施方式之管路清洗装置的结构示意图。

图2 为本实用新型具体实施方式之待清洗管路与加热震动装置结构示意图。

具体实施方式