[实用新型]一种石墨烯薄膜的制备装置有效
申请号: | 201822014534.6 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN209383394U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 李卓娜;李昊伦 | 申请(专利权)人: | 长春光辐科技有限公司 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 130000 吉林省长春市高新技术产业开发区博才路与学苑街交*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 进气阀 制备室 红外线加热炉 气体温度调节 本实用新型 石墨烯薄膜 室外设置 制备装置 出样室 进样室 保护气体 顶部设置 体内气体 温度稳定 依次连接 进气管 气体箱 侧壁 进样 制备 加热 温差 生长 | ||
本实用新型提供了一种石墨烯薄膜的制备装置,包括:进样室、制备室和出样室,所述进样室、制备室和出样室依次连接,所述进样室外设置有第一红外线加热炉,所述制备室外设置有第二红外线加热炉,所述制备室侧壁上设置有第一进气阀,所述第一进气阀上方设有气体温度调节室,所述气体温度调节室顶部设置有第二进气阀,所述第二进气阀设置有两个,分别通过进气管与保护气体箱和生长气体箱相连,本实用新型结构简单,加热迅速、精准,腔体内气体的通入温度稳定,温差小,能有效提高产品质量。
技术领域
本实用新型涉及一种石墨烯应用领域,特别涉及一种石墨烯薄膜的制备装置。
背景技术
石墨烯薄膜的生长需要在保护气体和生长气体的环境中进行。保护气体以及生长气体的温度和气流是否稳定能够直接影响到石墨烯薄膜生长的品质,因此需要在石墨烯制备腔体通入均匀的气流,尽量减小气体和腔体内的稳产,使气流较稳定。现有的装置在连续石墨烯薄膜制备过程中,管式炉内加热温度,维持温度,保护气体和生长气体更换时带来温差等造成制备腔内温度不稳定,因此,影响石墨烯薄膜的质量。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决现有现有的装置在连续石墨烯薄膜制备过程中,管式炉内加热温度,维持温度,保护气体和生长气体更换时带来温差等造成制备腔内温度不稳定,因此,影响石墨烯薄膜的质量等问题,提供了一种石墨烯薄膜的制备装置,本装置结构简单,加热迅速、精准,腔体内气体的通入温度稳定,温差小,能有效提高产品质量。
本实用新型提供的技术方案为:
一种石墨烯薄膜的制备装置,包括:进样室、制备室和出样室,所述进样室、制备室和出样室依次连接,所述进样室外设置有第一红外线加热炉,所述制备室外设置有第二红外线加热炉,所述进样室、制备室和出样室内设置有连通的滑轨,所述滑轨与进样室和出样室密封固定连接,所述滑轨上设置有薄膜制备箱,所述制备室侧壁上设置有第一进气阀,所述第一进气阀上方设有气体温度调节室,所述温度调节室设有温度调节装置,所述气体温度调节室顶部设置有第二进气阀,所述第二进气阀设置有两个,分别通过进气管与保护气体箱和生长气体箱相连,所述进样室和制备室侧壁上设置有真空泵和真空计,所述进样室和制备室内均设置有温度感应器,所述温度感应器与温度控制器电性连接,所述进样室顶部设置有进样口,所述出样室顶部设置有出样口,所述进样室一侧设置有推杆,所述出样室一侧设有磁性套杆,所述磁性套杆包括密封外壳和磁性滑柄,所述磁性滑柄顶端设有抓取部件。
优选的是,所述制备室与进样室的连接处设置第一绝热阀门,所述制备室与出样室的连接处设置有第二绝热阀门。
优选的是,所述温度调节装置为加热管,所述加热管盘旋在气体温度调节室外壁上。
优选的是,所述出样室外壁设有冷冻水循环装置。
优选的是,所述第一红外线加热炉和第二红外线加热炉内设置有红外线加热器。
本实用新型的有益效果体现在以下方面:
1、结构简单,加热迅速、精准。
2、腔体内气体的通入温度稳定,温差小,能有效提高产品质量。
附图说明
图1和图2均为为所述装置结构示意图。
1:进样室,2:制备室,3:出样室,4:第一红外线加热炉,5:第二红外线加热炉,6:滑轨,7:薄膜制备箱,8:第一进气阀,9:气体温度调节室,10:第二进气阀,11:进气管,12:保护气体箱,13:生长气体箱,14:真空泵,15:真空计,16:温度感应器,17:温度控制器,18:进样口,19:出样口,20:磁性套杆,21:密封外壳,22:磁性滑柄,23:抓取部件,24:第一绝热阀门,25:第二绝热阀门,26:加热管,27:冷冻水循环装置,28:红外线加热器,29:推杆。
具体实施方式
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