[实用新型]真空镀膜机

说明书

本实用新型公开一种真空镀膜机包括镀膜筒体、抽真空装置以及向镀膜筒体内输送镀膜材料的物料供给装置。镀膜筒体围出用于盛放待镀工件的容置腔，容置腔内安装有用于承载并驱动待镀工件转动的转动架，转动架包括大转盘和位于大转盘外缘的小转盘，大转盘的外环面设有第一齿牙，小转盘通过一固定轴安装于大转盘斜上方，且固定轴外还活动地套设有第一齿轮，固定轴的外表面向外凸设有第一卡合部，第一齿轮的内环面设置有与第一卡合部相配合的第二卡合部，小转盘通过第一齿轮和第一齿牙之间的连接实现与大转盘相啮合。使得本实用新型的真空镀膜机的大转盘和小转盘二者的运动模式多样化且使用起来更加灵活。

技术领域

本实用新型涉及机械领域，尤其涉及一种真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行镀膜的机器。根据镀膜方式的不同又可以分为真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。

众所周知，真空镀膜机内都安装有用于装夹待镀工件的转动架，现有的转动架基本都是包括转动轴、大转盘以及若干个小转盘。其中，转动轴设置于镀膜筒体的容置腔中间，转动轴的输出端与大转盘连接并驱动大转盘转动，若干个小转盘固定于大转盘上，故当转动轴驱动大转盘转动的时候，若干个固定于大转盘上的小转盘也会跟随着大转盘一起转动，大转盘与小转盘之间是联合运动的，小转盘不能独立转动。而随着社会的迅速发展，工件形状也越来越复杂，镀层种类也越来越多样化，尤其是对于一些彩色干涉膜，这种类型的镀层对于膜层厚度十分敏感，而现有的大转盘连同小转盘一起转动的转动架则不能满足以上工艺需求。

因此，亟需一种大转盘和小转盘运动方式多样的真空镀膜机来克服上述的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种大转盘和小转盘运动方式多样的真空镀膜机。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种真空镀膜机，包括镀膜筒体、抽真空装置以及向所述镀膜筒体内输送镀膜材料的物料供给装置，所述镀膜筒体围出用于盛放待镀工件的容置腔，所述容置腔内安装有用于承载并驱动待镀工件转动的转动架，所述转动架包括大转盘和位于大转盘外缘的小转盘，所述大转盘的外环面设有第一齿牙，所述小转盘通过一固定轴安装于所述大转盘斜上方，且所述固定轴外还活动地套设有第一齿轮，所述固定轴的外表面向外凸设有第一卡合部，所述第一齿轮的内环面设置有与所述第一卡合部相配合的第二卡合部，所述小转盘通过所述第一齿轮和所述第一齿牙之间的连接实现与所述大转盘相啮合。

较佳地，所述大转盘的转动中轴线与所述小转盘的转动中轴线相互平行。

较佳地，所述真空镀膜机还包括设置于所述第一齿轮下方并支撑所述第一齿轮的滚珠轴承和驱动所述滚珠轴承沿所述固定轴滑动的第一驱动机构。

较佳地，所述真空镀膜机还包伸缩机构，所述伸缩机构的输出端固定连接有第二齿轮，所述小转盘的外环面设置有第二齿牙，所述伸缩机构驱动所述第二齿轮沿所述容置腔的上下方向移动，所述第二齿轮选择性地与所述小转盘的所述第二齿牙相啮合或者脱离连接

较佳地，所述真空镀膜机还包括旋转机构，所述伸缩机构的输出端通过所述旋转机构与所述第二齿轮固定连接，所述第二齿轮安装于所述旋转机构的输出端。

较佳地，所述转动架还包括第二驱动机构，所述大转盘的内环面设置有第三齿牙，所述第二驱动机构通过所述第三齿牙与所述大转盘相啮合并驱动所述大转盘转动。

较佳地，所述容置腔的底部还设置有若干滚轮，所述滚轮位于所述大转盘的正下方并承托所述大转盘，所述滚轮的转动中轴线与所述大转盘的转动中轴线相互垂直。

较佳地，所述第一卡合部的横截面呈T字型。

较佳地，所述大转盘的上表面设置有环形的凹槽，所述环形的凹槽内安装有若干滚珠，所述滚珠的顶部向上凸出于所述凹槽并抵接于所述小转盘的底部。