[实用新型]一种步进式移动平台及锗单晶位错密度测试装置有效

专利信息
申请号: 201822048631.7 申请日: 2018-12-06
公开(公告)号: CN209690198U 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 张路;马会超;冯德伸 申请(专利权)人: 北京国晶辉红外光学科技有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/01
代理公司: 11619 北京辰权知识产权代理有限公司 代理人: 佟林松<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 100088 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 支撑台面 滑板 步进式移动平台 底部支撑板 工作效率 滑动方向 支撑圆环 锗单晶 步进 位错 密度测试装置 本实用新型 定位准确 装置测试 滑动 测试位 支撑台 转动 垂直
【说明书】:

实用新型提供了一种步进式移动平台及锗单晶位错密度测试装置。该步进式移动平台包括底部支撑板、中部滑板和上部支撑台面,所述支撑台面上设有支撑圆环,所述中部滑板分别与所述底部支撑板和所述上部支撑台面滑动步进连接,并且所述底部支撑板相对于中部滑板的滑动方向与所述上部支撑台面相对于中部滑板的滑动方向互为垂直,所述支撑圆环与所述支撑台面转动步进连接。该装置包括上述的步进式移动平台。采用该装置测试锗单晶的位错密度,操作简单,方便实用,定位准确,读数精准的优势,提高工作效率,解决了现有技术中测试位错密度时存在的操作繁琐、读数有偏差、工作效率较低等技术问题。

技术领域

本实用新型涉及位错密度测试装置技术领域,具体涉及一种步进式移动平台及锗单晶位错密度测试装置。

背景技术

低位错密度的锗单晶广泛应用于太阳能领域,位错密度是材料核心指标,目前位错密度的测试遵循标准采用九点测量法。

图1示出了一种依据测试标准所采用的九点法测量套板,套板贴于测试片测量测面上,通过套板上的九个定位孔读取位错数量。为使测量结果更真实的反映测量面的整体位错密度状况,采用三组九点法进行测试,即通过套板围绕圆心分别旋转30°、60°后再次进行读数,最后取三次读数平均值作为测试结果。此种测量方法较为准确可靠,但是此方式在测试过程中存在以下问题:

1、贴有九孔套板的测试片置于常用显微镜移动平台上,通过调节手轮调节平台的位置。由于定位孔孔径较小,使定位孔和显微镜镜头对齐需要多次调节显微镜移动平台,特别对于倒置显微镜来讲,需要测试人员从平台底部观察调节。套板偏转时,需要取下套板重新贴合,操作繁琐,工作效率较低。

2、由于加工精度的限制,套板九个定位孔边缘轮廓度不佳,显微镜内所呈现的视野边缘模糊,易造成读数偏差。

因此,针对以上问题,开发一种操作简便、定位准确、读数精准且工作效率高的用于位错密度测试的装置是十分必要的。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种步进式移动平台及锗单晶位错密度测试装置,设有该步进式移动平台的装置可用于锗单晶位错密度的测试,并且采用该装置测试锗单晶的位错密度,具有操作简单,方便实用,定位准确,读数精准的优势,提高工作效率,以解决现有技术中测试位错密度时存在的操作繁琐、读数有偏差、工作效率较低等技术问题。

为了实现上述目的,根据本实用新型的第一方面,提供了一种步进式移动平台。

该步进式移动平台包括底部支撑板、中部滑板和上部支撑台面,所述支撑台面上设有支撑圆环,所述中部滑板分别与所述底部支撑板和所述上部支撑台面滑动步进连接,并且所述底部支撑板相对于中部滑板的滑动方向与所述上部支撑台面相对于中部滑板的滑动方向互为垂直,所述支撑圆环与所述支撑台面转动步进连接。

进一步的,所述中部滑板上部与所述上部支撑台面通过两侧平行设置的第一滑动导向机构滑动步进连接,所述中部滑板下部与所述底部支撑板通过与所述第一滑动导向机构垂直的方向平行设置的第二滑动导向机构滑动步进连接。

进一步的,所述第一滑动导向机构包括设置在所述中部滑板上部两侧的滑槽或导轨以及对应设置在所述上部支撑台面两侧的导轨或滑槽;所述第二滑动导向机构包括设置在所述中部滑板下部两侧的滑槽或导轨以及对应设置在所述底部支撑板两侧的导轨或滑槽。

进一步的,所述滑槽的纵向截面或横向截面为半圆形,且半圆形截面的开口朝向外侧。

进一步的,所述导轨的纵向截面或横向截面为半圆形,且半圆形截面的开口朝向所述滑槽的截面开口。

进一步的,所述上部支撑台面上设有圆形阶梯槽,所述圆形阶梯槽的台阶支撑所述支撑圆环,使得所述支撑圆环容置在所述阶梯槽内且所述支撑圆环周向与所述阶梯槽周向之间具有转动步进连接机构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国晶辉红外光学科技有限公司,未经北京国晶辉红外光学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201822048631.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top