[实用新型]一种硅刻蚀通孔的扇出型晶圆级封装结构有效
申请号: | 201822050155.2 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN209029360U | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 徐健 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/522;H01L21/56;H01L21/60 |
代理公司: | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 张东梅 |
地址: | 214028 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质材料块 导电线路 塑封材料 芯片 顶面 凸点 晶圆级封装结构 第一表面 扇出型 焊盘 刻蚀 通孔 本实用新型 第二表面 顶面齐平 电连接 包封 源区 | ||
本实用新型公开了一种硅刻蚀通孔的扇出型晶圆级封装结构,包括:芯片;介质材料块,所述介质材料块与所述芯片相邻;塑封材料,所述塑封材料包封所述芯片和所述介质材料块,其中所述芯片具有第一表面和第二表面,所述第一表面上具有有源区以及至少两个焊盘,每个焊盘上具有凸点,所述凸点的顶面、介质材料块的顶面以及塑封材料的顶面齐平,构成一个平面,所述凸点的顶面和塑封材料的顶面上设置有第一导电线路,介质材料块的顶面上设置有第二导电线路和/或器件,所述第一导电线路与所述第二导电线路和/或器件电连接。
技术领域
本实用新型的实施例涉及半导体封装技术。具体而言,本实用新型涉及一种硅刻蚀通孔的扇出型晶圆级封装结构。
背景技术
随着电子产品多功能化和小型化的潮流,高密度微电子组装技术在新一代电子产品上逐渐成为主流。为了配合新一代电子产品的发展,尤其是智能手机、掌上电脑、超级本等产品的发展,芯片的尺寸向密度更高、速度更快、尺寸更小、成本更低等方向发展。扇出型板级封装技术(Fanout Panel Level Package, F0PLP)的出现,作为扇出型晶圆级封装技术(Fanout Wafer Level Package, F0WLP)的升级技术,拥有更广阔的发展前景。
在高频电子设备中,电路上一段特殊形状的铜皮也可以构成一个电感、电容、或电阻等,通常把这种器件称为无源器件。在智能系列产品的接受度和使用度大幅提高的现代社会,高频无源器件的产能也随之高涨。随着电子产品小型化的发展,电感、电容、天线等无源器件的体积已减小到物理极限。未来无源器件的发展方向是集成化,为客户提供便于使用的完整系统。小型化将会是大部分电子设备的方向,我们已经看到了触屏手机、液晶电视、平板电脑的轻薄化趋势,因此,无源器件作为电路系统中不可缺少的组件,轻薄小型、高效集成是必然走向。
现有的集成扇出型InFO(Integrated Fan-Out)封装方案,封装多在单面进行封装布线,信号线路都只在封装的单面。低频信号及高频信号都通过一个平面布线,往往信号之前的相互串扰比较严重,信号的完整性比较难以保证。
此外,InFO封装方案,布线多在塑封有机材料之上,塑封材料做为介质材料。受限于有机材料的材料特性,如电导率、介电常数、损耗角等,往往在某些应用中受限较大。无法实现某些电器特性。如高的Q值电感、电容,天线设计等。
因此,本领域需要一种适用于高频信号的扇出型晶圆级封装结构
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型提出一种基于TSV的RDL布线,将部分非高频信号引导到封装的背部,实现高频信号与低频信号的分开布置,减小信号串扰。
根据本实用新型的一个方面,提供一种硅刻蚀通孔的扇出型晶圆级封装结构,包括:
芯片;
介质材料块,所述介质材料块与所述芯片相邻;
塑封材料,所述塑封材料包封所述芯片和所述介质材料块,
其中所述芯片具有第一表面和第二表面,所述第一表面上具有有源区以及至少两个焊盘,每个焊盘上具有凸点,所述凸点的顶面、介质材料块的顶面以及塑封材料的顶面齐平,构成一个平面,所述凸点的顶面和塑封材料的顶面上设置有第一导电线路,介质材料块的顶面上设置有第二导电线路和/或器件,所述第一导电线路与所述第二导电线路和/或器件电连接,
所述第二表面与所述第一表面相对,所述第二表面与塑封材料的背面齐平,且重布线层和外接焊盘分布在第二表面和塑封材料的背面上,重布线层通过一个或多个TSV孔与所述凸点中的一个或多个形成电连接,其中TSV孔从所述第二表面延伸到对应凸点的焊盘,并且TSV孔内部填充有导电金属。
在本实用新型的一个实施例中,所述凸点包括用于高频信号传输的凸点和用于低频信号传输的凸点。
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