[实用新型]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

承载头；

托架，其供基板放置，使所述基板加载于所述承载头；

加压力缓和部，其配备于所述托架，使因所述承载头与所述基板的接触而作用于所述基板的加压力缓和。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加压力缓和部能相互独立地缓和作用于所述基板的加压力地配备有多个。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

多个所述加压力缓和部使按所述基板区域作用的互不相同强度的加压力独立地缓和。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

多个所述加压力缓和部沿所述基板的圆周方向隔开地配置。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加压力缓和部包括：

基板放置部，其能上下移动地结合于所述托架，供所述基板安放；

第一弹性构件，其弹性支撑所述基板放置部相对于所述托架的上下移动。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

包括固定于所述托架的底座构件，

所述基板放置部能上下移动地结合于所述底座构件。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述底座构件，沿上下方向贯通形成有引导孔，

在所述基板放置部，沿所述引导孔能移动地结合有引导构件。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

包括使所述托架选择性地升降的升降构件。

9.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述承载头包括：本体部，其能旋转地设置；隔膜，其在本体部的下面设置；

所述承载头包括在所述隔膜的外周配置的卡环，

包括结合于所述基板放置部并供所述卡环放置的卡环放置构件。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

所述卡环在高于所述基板放置部的位置，放置于所述卡环放置构件。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述卡环放置构件相对于所述基板放置部能上下移动地结合，

包括第二弹性构件，第二弹性构件弹性支撑所述卡环放置构件相对于所述基板放置部的上下移动。

12.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述卡环放置构件，沿上下方向形成有贯通孔，

在所述基板放置部，延长形成有贯通所述贯通孔并供所述基板的下面安放的放置销。

13.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板放置部相对于所述引导构件能水平移动地结合，

包括对齐部，对齐部相对于所述承载头，使所述基板放置部移动到既定的对齐位置。

14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，

所述对齐部包括弹簧构件，所述弹簧构件提供弹性力，以便所述基板放置部移动到所述既定的对齐位置。

15.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，

所述对齐部包括：

结合于所述基板放置部的第一磁铁部；

结合于所述引导构件的第二磁铁部，

借助于所述第一磁铁部与所述第二磁铁部间的相互电磁力，所述基板放置部移动到所述既定的对齐位置。