[实用新型]一种蒸镀装置

说明书

本实用新型涉及蒸镀技术领域，提供了一种蒸镀装置，所述蒸镀装置，包括：加热坩埚，用于对蒸镀材料进行加热使其蒸发；磁板，位于所述加热坩埚上方，具有磁性，用于固定待蒸镀的目标基板；所述磁板内设置有两个以上的磁性物，且所述磁板的磁性由中部至边缘递减。上述技术方案的蒸镀装置中磁板的磁性由中部向边缘递减，从而对目标基板中部的吸力大于边缘，减小目标基板的滑移与金属掩膜板的褶皱，可提高金属掩膜板与基板的贴合程度，不仅避免蒸镀有机膜图案出现异常，而且有利于减小目标基板破片风险，提高金属掩膜板寿命，从而有效提高生产效率，保证了产品的品质和生产进度。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别是涉及一种应用于OLED显示器有机发光层蒸镀的蒸镀装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)具有自发光、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗等优异性能，使OLED显示面板已成为当前研究的热点与重点。OLED显示屏中有机发光层的制备，通常是采用真空蒸镀技术，即在真空腔体内，通过加热坩埚中的蒸镀材料，使其蒸发并沉积在目标基板上。现有的蒸镀机主要包括蒸镀源、金属掩膜板、接触板和磁板。在蒸镀成膜过程中，通过加热坩埚中的蒸镀材料，使其穿过设有开口图案的金属掩膜板，沉积在目标基板上形成图形化的有机发光层。接触板位于磁板和目标基板之间，与目标基板相接触，便于散热及保证目标基板的接触平整度；金属掩膜板位于目标基板背向接触板的另一侧，其通过磁板吸附固定在目标基板上并与目标基板对位贴合。

在现有技术中，基板在搬运及与金属掩膜板的对位过程中，基板的滑移会导致破片影响正常生产。此外，随着OLED显示面板尺寸的增大与轻薄度需求的提高，蒸镀成膜过程中使用的金属掩膜板与基板的面积与厚度也分别随之增大与减小，由于其轻薄度与重力的影响，金属掩膜板与基板中间位置相比于边缘位置皆具有更大的下垂量，使其呈现为不同是弯曲面结构。而通常磁板是一个平面结构，因此，在金属掩膜板与基板对位的过程中，金属掩膜板与基板之间或多或少会存在间隙，在成膜过程中，蒸镀材料会从该间隙处渗出形成大于原开孔图案的外扩区，即出现阴影效应(Shadow effect)。而金属掩膜板的下垂还会引起掩膜板褶皱问题，不仅会降低金属掩膜板的使用寿命，而且蒸镀的有机膜图案会出现异常。

实用新型内容

为此，需要提供一种蒸镀装置，用于解决有现技术中目标基板以及金属掩膜板中部下垂，出现阴影效应和金属掩膜板褶皱，影响金属掩膜板的使用寿命，以及蒸镀图案异常的问题。

为实现上述目的，发明人提供了一种蒸镀装置，包括：

加热坩埚，用于对蒸镀材料进行加热使其蒸发；

磁板，位于所述加热坩埚上方，具有磁性，用于固定待蒸镀的目标基板；

所述磁板内设置有两个以上的磁性物，且所述磁板的磁性由中部至边缘递减。

进一步的，所述磁性物为电磁铁，所述电磁铁包括铁芯和缠绕于所述铁芯表面的导电线圈。

进一步的，所述铁芯为软铁或硅钢。

进一步的，由所述磁板的中部至边缘，所述电磁铁导通电流或单位长度内缠绕的导电线圈的圈数递减，使所述磁板的磁性由中部至边缘递减。

进一步的，所述电磁铁在所述磁板内呈行列矩阵式排列。

进一步的，还包括接触板，所述接触板设置于所述磁板的下表面，用于与所述目标基板接触。

进一步的，还包括金属掩膜板，所述金属掩膜板设置于所述目标基板的下方，金属掩膜板上镂空有蒸镀图案。