[实用新型]一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置有效
申请号: | 201822158280.5 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN209520702U | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 龚卫民;肖可;王晨;杜林宝 | 申请(专利权)人: | 核动力运行研究所;中核武汉核电运行技术股份有限公司 |
主分类号: | B24B15/00 | 分类号: | B24B15/00;B24B7/16;B24B27/00;B24B27/033;B24B29/02;B24B41/06;B24B47/22;B24B49/12;B24B51/00;B24B55/06;B24B55/04 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 李东斌 |
地址: | 430223 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 行走单元 压力容器法兰 密封结构 抛光单元 吸尘单元 反应堆压力容器 自动抛光装置 打磨抛光 控制系统 密封面 本实用新型 法兰密封面 抛光操作 人工打磨 视频检查 压力容器 自动抛光 抽吸 减小 沾污 密封 核电站 粉尘 检修 检查 | ||
本实用新型涉及核电站检修技术领域,具体公开了一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置。该装置包括抛光单元、行走单元、吸尘单元、视频检查单元以及控制系统,其中,所述的行走单元可沿法兰密封面行走,抛光单元安装在行走单元上,并可对压力容器法兰密封面进行打磨抛光,所述的吸尘单元安装在行走单元上,利用吸尘单元对抛光单元产生的粉尘进行抽吸,所述的控制系统安装在行走单元上,用于控制行走单元的运动及对压力容器法兰密封面的打磨抛光。该装置能够实现压力容器密封结构(压力容器法兰密封面)的自动抛光及检查,取代人工打磨抛光操作,降低操作人员的劳动强度,减小操作人员的受照剂量,降低操作人员的沾污风险。
技术领域
本发明属于核电站检修技术领域,具体涉及一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置。
背景技术
核电厂在大修换料时必须开启反应堆压力容器,为了保证压力容器密封性,需要对压力容器法兰面上的密封面进行打磨抛光以及检查,去除残留其上可能会影响其密封性的一些粉尘、锈迹等异物以及印痕和划痕等,并对打磨抛光表面进行视频检查,保证打磨和抛光后的法兰面满足密封要求。目前国内的压力容器法兰面抛光多采用人手工打磨抛光的方式,存在操作人员劳动强度大,操作人员暴露在放射性粉尘环境中沾污风险高等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置,可以实现对反应堆压力容器密封结构的自动抛光。
本发明的技术方案如下:一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置,该装置包括抛光单元、行走单元、吸尘单元、视频检查单元以及控制系统,其中,所述的行走单元可沿法兰密封面行走,抛光单元安装在行走单元上,并可对压力容器法兰密封面进行打磨抛光,所述的吸尘单元安装在行走单元上,利用吸尘单元对抛光单元产生的粉尘进行抽吸,所述的控制系统安装在行走单元上,用于控制行走单元的运动及对压力容器法兰密封面的打磨抛光。
所述的行走单元包括车体、行走轮、内侧靠轮和外侧靠轮,其中,内侧靠轮和外侧靠轮安装在车体左右两侧,并夹紧压力容器上的螺栓孔法兰,使车体始终沿法兰密封面行走。
所述的抛光单元通过直线导轨及直线气缸与行走单元上的车体相连接,通过直线气缸控制抛光单元的上下运动及与被抛光表面的贴紧程度。
所述的抛光单元包括打磨抛光电机、减速箱以及打磨抛光轮及轮罩,其中,打磨抛光轮及轮罩包括前后布置的打磨轮和抛光轮,打磨抛光电机通过减速箱与打磨抛光轮及轮罩相连接,根据打磨和抛光的工艺要求,通过减速箱为打磨轮和抛光轮分配不同的转速。
所述的行走单元包括行走电机及传动系统,通过驱动行走轮带动车体在法兰面上移动。
所述的打磨抛光轮及轮罩中在车体行进前端为打磨轮,后端为抛光轮。
所述的吸尘单元包括吸尘桶及波纹管,其中,吸尘桶安装在车体上,并通过波纹管与抛光单元中的打磨抛光轮及轮罩相连接,在抛光过程中,吸尘桶工作使轮罩保持一定的负压,从而将抛光产生的粉尘吸入吸尘桶中。
该装置还包括视频检查单元,所述的视频检查单元包括相机、光源及相机支架,在抛光过程中,同步检查并记录抛光后的压力容器法兰密封面图像,为判断抛光效果提供依据。
本发明的显著效果在于:本发明所述的一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置,能够实现压力容器密封结构(压力容器法兰密封面)的自动抛光及检查,取代人工打磨抛光操作,降低操作人员的劳动强度,减小操作人员的受照剂量,降低操作人员的沾污风险。同时,能保证自动抛光装置始终沿着压力法兰面运动,抛光轮和打磨轮始终覆盖压力容器法兰密封面。另外,能够保证打磨和抛光过程中抛光轮和打磨轮与法兰面之间的接触里恒定,从而保证抛光的均匀性。
附图说明
图1为本发明所述的一种适用于反应堆压力容器密封结构的自动抛光装置结构示意图;
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