[实用新型]一种双面抛光机有效
申请号: | 201822158368.7 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN209579150U | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 刘桂勇;宋士佳;李琳琳 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B57/02 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 102209 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光液 输液管路 抛光机 抛光液供给装置 出液管路 本实用新型 控制阀连接 双面抛光机 控制阀 抛光技术领域 表面粗糙度 控制阀控制 工件表面 抛光液管 设备成本 一端设置 输出 抛光 加装 箱中 装入 传送 | ||
1.一种双面抛光机,其特征在于:包括抛光机本体和抛光液供给装置,所述抛光液供给装置包括控制阀、抛光液箱和抛光液管路,所述抛光液管路包括出液管路与多条输液管路,所述输液管路一端与所述抛光液箱连接,另一端与所述控制阀连接,所述出液管路一端与所述控制阀连接,另一端设置于所述抛光机本体上。
2.根据权利要求1所述的双面抛光机,其特征在于:所述输液管路包括粗抛抛光液管与精抛抛光液管。
3.根据权利要求1所述的双面抛光机,其特征在于:所述控制阀为三通电磁阀。
4.根据权利要求1所述的双面抛光机,其特征在于:所述抛光机主体包括上抛光盘和下抛光盘,所述上抛光盘表面设置精抛抛光垫,所述下抛光盘表面设置粗抛抛光垫。
5.根据权利要求4所述的双面抛光机,其特征在于:选用邵氏硬度为30-50的精抛抛光垫。
6.根据权利要求4所述的双面抛光机,其特征在于:选用邵氏硬度为70-90的粗抛抛光垫。
7.根据权利要求1所述的双面抛光机,其特征在于:所述抛光机本体包括承载盘,所述承载盘上设有吸附垫,所述吸附垫上具有放置工件的凹槽。
8.根据权利要求7所述的双面抛光机,其特征在于:所述凹槽的深度为所述工件的厚度的60%。
9.根据权利要求7所述的双面抛光机,其特征在于:所述承载盘为陶瓷盘。
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