[实用新型]一种CVD反应腔室真空度测量装置有效

专利信息
申请号: 201822169422.8 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN209416579U 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 屈丰超;邓曾红;赵青松;张金斌;南建辉 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: G01L21/00 分类号: G01L21/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 反应腔室 真空度测量装置 移动机构 真空测量 本实用新型 真空度测量 驱动机构 中空腔室 移动轴 反应位置 机构设置 两端开口 正中位置 反应腔 可移动 侧壁 测量 穿过 室内 移动
【权利要求书】:

1.一种CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构,所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连,所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中;所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴,所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。

2.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述传动机构包括与所述驱动机构连接的传动轴,所述传动轴与第一伞齿轮相连,所述第一伞齿轮与第二伞齿轮相啮合,所述第二伞齿轮与传动螺杆相连,所述传动螺杆上设有传动螺母,所述传动螺母通过连接杆与所述移动轴相连。

3.根据权利要求2所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述传动轴上设有刻度圆盘。

4.根据权利要求2所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述驱动机构包括传动手柄或驱动电机。

5.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:还包括轴套,所述轴套通过固定连接件与所述反应腔室的内侧壁相连,所述移动轴滑动连接于所述轴套中。

6.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述反应腔室的侧壁设有供所述移动轴穿过的通孔,所述通孔处安装有密封圈,所述密封圈套设在所述移动轴上,且所述移动轴与所述密封圈密封滑动接触。

7.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述真空测量机构为真空规,所述移动轴设置在所述反应腔室中的一端设有固定法兰,所述固定法兰与所述真空规相连。

8.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述移动轴包括移动轴壳体,所述移动轴壳体由内层壳体和外层壳体组成,所述中空腔室设置于所述内层壳体中,在所述内层壳体与所述外层壳体之间设有夹层腔室,所述夹层腔室中设有冷却液。

9.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:还包括设置在所述反应腔室底部的支架。

10.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:所述移动轴上还设有限位块。

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