[实用新型]一种CVD反应腔室真空度测量装置

说明书

本实用新型涉及真空度测量技术领域，尤其涉及一种CVD反应腔室真空度测量装置。该CVD反应腔室真空度测量装置包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连，所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中，所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴，所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。本实用新型提供的CVD反应腔室真空度测量装置，真空测量机构能够移动至反应腔室内的正中位置，从而测量出靠近于基体反应位置附近的真空度，真空度测量更加精确。

技术领域

本实用新型涉及真空度测量技术领域，尤其涉及一种CVD反应腔室真空度测量装置。

背景技术

在现有的CVD反应腔室中，真空规一般安放于腔室的侧壁中间位置，测量出的真空度是腔室侧壁中间位置附近的真空度。根据CVD工艺与反应原理，CVD反应腔室抽真空的管道布置在腔室底部，而基体反应沉积的位置在腔室的内侧正中位置，这样必然会出现腔室内侧正中的真空度和腔室侧壁中间的真空度不一致，那么在对工艺压力控制的时候会存在一定偏差，无法精确的测出靠近腔室内侧正中位置的真空度，从而难以准确的控制压力范围。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种CVD反应腔室真空度测量装置，解决现有真空度测量装置无法精确的测出靠近腔室内侧正中位置的真空度的问题。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种CVD反应腔室真空度测量装置，包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连，所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中；所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴，所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。

进一步地，所述传动机构包括与所述驱动机构连接的传动轴，所述传动轴与第一伞齿轮相连，所述第一伞齿轮与第二伞齿轮相啮合，所述第二伞齿轮与传动螺杆相连，所述传动螺杆上设有传动螺母，所述传动螺母通过连接杆与所述移动轴相连。

具体地，所述传动轴上设有刻度圆盘。

进一步地，所述驱动机构包括传动手柄或驱动电机。

进一步地，还包括轴套，所述轴套通过固定连接件与所述反应腔室的内侧壁相连，所述移动轴滑动连接于所述轴套中。

具体地，所述反应腔室的侧壁设有供所述移动轴穿过的通孔，所述通孔处安装有密封圈，所述密封圈套设在所述移动轴上，且所述移动轴与所述密封圈密封滑动接触。

具体地，所述真空测量机构为真空规，所述移动轴设置在所述反应腔室中的一端设有固定法兰，所述固定法兰与所述真空规相连。

进一步地，所述移动轴包括移动轴壳体，所述移动轴壳体由内层壳体和外层壳体组成，所述中空腔室设置于所述内层壳体中，在所述内层壳体与所述外层壳体之间设有夹层腔室，所述夹层腔室中设有冷却液。

进一步地，还包括设置在所述反应腔室底部的支架。

具体地，所述移动轴上还设有限位块。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点：

本实用新型提供的CVD反应腔室真空度测量装置，驱动机构能够通过传动机构将运动传递至移动轴，移动轴再带动真空测量机构在反应腔室内进行移动，使真空测量机构能够移动至反应腔室内的正中位置，从而测量出靠近于基体反应位置附近的真空度，真空度测量更加精确，而且可以通过调节真空测量机构在反应腔室中的位置，从而测量出反应腔室内不同位置处的真空度，便于实现对基体反应沉积的压力控制。