[实用新型]一种多源共蒸发取样装置及多源共蒸发镀膜系统

权利要求书

1.一种多源共蒸发取样装置，用于多源共蒸发镀膜系统，所述多源共蒸发镀膜系统包括真空蒸发腔(1)和设于所述真空蒸发腔(1)内的至少一个金属蒸发源，其特征在于，所述多源共蒸发取样装置包括至少一个取样单元，所述取样单元与所述金属蒸发源一一对应，所述取样单元设于所述真空蒸发腔的外壁(10)，所述取样单元内设有与所述真空蒸发腔(1)连通的取样通道，所述取样通道的底部设有载玻片容纳槽(20)，所述载玻片容纳槽(20)内可拆卸地设有载玻片，所述载玻片与所述取样通道的轴线垂直。

2.根据权利要求1所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述取样单元设于与之对应的所述金属蒸发源的上方；所述取样单元和与之对应的所述金属蒸发源的距离小于其和其他金属蒸发源的距离。

3.根据权利要求2所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述真空蒸发腔(1)设有取样孔，所述取样通道通过所述取样孔与所述真空蒸发腔(1)连通。

4.根据权利要求3所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，取样单元包括沿远离所述真空蒸发腔(1)方向依次同轴连接的固定底座(11)、第一法兰(24)、主体支架、第二法兰(18)和封堵件(19)；

所述固定底座(11)、所述第一法兰(24)、所述主体支架和所述第二法兰(18)分别设有通孔，所述固定底座(11)的通孔、所述第一法兰(24)的通孔、所述主体支架的通孔和所述第二法兰(18)的通孔分别与所述取样孔同轴，所述固定底座(11)的通孔、所述第一法兰(24)的通孔、所述主体支架的通孔和所述第二法兰(18)的通孔组成所述取样通道；

所述封堵件(19)与所述第二法兰(18)的通孔连接以密封所述取样通道。

5.根据权利要求4所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述封堵件(19)包括同轴连接的封堵柱和封堵帽；

所述封堵柱的直径小于或等于所述第二法兰(18)的通孔的内径，所述封堵帽的直径大于所述第二法兰(18)的通孔的内径，所述封堵柱设有所述第二法兰(18)的通孔内，所述封堵帽的第一表面与所述第二法兰(18)的第一表面连接；

所述封堵帽的第一表面与所述第二法兰(18)的第二表面间设有密封圈；

所述载玻片容纳槽(20)设于所述封堵柱远离所述封堵帽的一端。

6.根据权利要求4所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述第二法兰(18)的外壁设有真空管(21)，所述第二法兰(18)内设有真空通道；

所述真空管(21)、所述真空通道和所述第二法兰(18)的通孔依次连通；

所述真空管(21)远离所述第二法兰(18)的一端用于与气体驱动设备连通。

7.根据权利要求4所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述第一法兰(24)的外壁设有水冷管(12)，所述第一法兰(24)内设有与所述水冷管(12)连通的水冷通道；

所述水冷管(12)远离所述第一法兰(24)的一端用于与水源连通。

8.根据权利要求4所述的一种多源共蒸发取样装置，其特征在于，所述固定底座(11)与所述真空蒸发腔的外壁(10)连接。