[实用新型]一种真空镀膜装置

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，包括：包括真空镀膜的腔体(4)、磁钢(3)、靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)，所述腔体(4)构造出一立方体空间，所述靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)均设置于所述立方体空间内，所述磁钢(3)设置于所述腔体(4)的外壁上，所述靶材(2)设置于所述腔体(4)的内壁上，所述靶罩(1)设置于所靶材(2)上方和侧面，形成一门型，将所述靶材(2)覆盖于所述靶罩(1)内，同时在靶罩(1)的上方设有一开口(11)，所述开口(11)与靶材(2)在腔体(4)上的投影相一致，所述基片(5)设置于所述靶材(2)上方50-100mm的范围内；

其特征在于，所述真空镀膜装置在靶罩(1)上设置有挡块(6)，所述挡块(6)外部连接有一旋钮(7)，所述旋钮(7)上设有一把手(71)，所述把手(71)位于所述腔体(4)的外侧，所述旋钮(7)上还设有一调拨机构，通过旋转所述旋钮(7)的腔体(4)外部的把手(71)，带动所述调拨机构运动，所述调拨机构调拨挡块(6)在平行于靶面的水平面上来回移动，进而打开或者遮挡部分开口(11)。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述挡块(6)有2块，在靶罩(1)的两侧分别设置有1块挡块(6)，所述挡块(6)均连有所述旋钮(7)。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述靶罩(1)的两侧分别设有3-5块挡块(6)，所述挡块(6)均连有如上所述的旋钮(7)。

4.根据权利要求2或3所述的真空镀膜装置，其特征在于，在靠近靶材(2)中部的位置不设置挡块(6)，所述挡块(6)来回移动不能遮挡靠近靶材(2)中部位置的开口(11)。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，所述挡块(6)为长方体结构或球体或圆柱体。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述调拨机构为一拨片(73)。

7.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述挡块(6)上设有一通孔(61)与齿条(62)。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述调拨机构为一齿轮(74)，所述旋钮(7)包括把手(71)，柱体(72)与齿轮(74)，所述把手(71)与齿轮(74)通过柱体(72)连接，所述旋钮(7)的柱体(72)贯穿所述通孔(61)，将所述旋钮(7)的齿轮(74)置于所述挡块(6)内与挡块(6)上的齿条(62)啮合，所述把手(71)设在所述腔体(4)外。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述挡块(6)上还设置有上下2个横向凹槽(63)，所述靶罩(1)上设置有与所述凹槽(63)相对应的2个定位销。