[实用新型]线性蒸镀设备用晶振控制系统

权利要求书

1.线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：包括设置在蒸镀室内的支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、固定设置于蒸镀室内的挡板、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，所述挡板上开设有对应所述晶振探头组件的开口，所述晶振探头组件包括有至少两个呈直线排布的晶振探头，其中一个所述晶振探头与所述开口对应设置；所述驱动机构驱动所述支架沿平行于所述晶振探头排布方向的方向移动。

2.如权利要求1所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述驱动机构包括有设置于所述蒸镀室外的气缸、设置于蒸镀室一侧的密封组件、设置于蒸镀室内的导向组件、及与所述导向组件相配合的底座，所述支架固定设置在底座上；所述气缸的气缸轴通过密封组件与所述底座连接。

3.如权利要求2所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述密封组件为套置于所述气缸轴上的波纹管。

4.如权利要求2所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述底座上设置有两组平行设置的滑杆孔，所述导向组件为平行穿设于所述滑杆孔内的滑杆，所述支架固定设置于所述底座上，所述驱动机构驱动所述晶振探头组件沿所述导向组件运动。

5.如权利要求2所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述晶振探头组件固定于所述支架上，各所述晶振探头组件中相邻晶振探头之间间距设置，且该间距与所述气缸的行程相等。

6.如权利要求5所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述晶振探头组件包括一个工作用晶振探头和至少一个备用晶振探头，所述气缸的数量与所述晶振探头组件中备用晶振探头的数量相对应，所述气缸沿所述导向组件首尾相连设置。

7.如权利要求6所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述驱动机构还包括用于固定所述气缸的气缸座的导轨，远离支架的所述气缸的气缸座固定设置在所述导轨上，其余气缸的气缸座滑动设置在所述导轨上。

8.如权利要求1所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述驱动机构包括有步进电机、与步进电机连接的传动件、设置于步进电机一侧的密封组件及导向组件；所述步进电机通过所述传动件驱动所述晶振探头组件沿所述导向组件运动。

9.如权利要求8所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述传动件包括丝杆、与丝杆配合的底座，所述支架固定设置于所述底座上，所述丝杆转动带动底座在导向组件上移动。

10.如权利要求1-9中任意一所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，其特征在于：所述支架上设置有用于对晶振探头进行冷却的冷却组件。