[实用新型]线性蒸镀设备用晶振控制系统

说明书

本实用新型提供了一种线性蒸镀设备用晶振控制系统，包括设置在蒸镀室内的支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、固定设置于蒸镀室内的挡板、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，挡板上开设有对应所述晶振探头组件的开口，晶振探头组件包括有至少两个呈直线排布的晶振探头，其中一个所述晶振探头与所述开口对应设置；驱动机构驱动所述支架沿平行于所述晶振探头排布方向的方向移动。本实用新型采用多个晶振探头，通过驱动组件进行移动切换，有效的对晶振探头进行更替，保证了蒸镀的连续性，提高了蒸镀效率。

技术领域

本实用新型属于线性蒸镀技术领域，尤其涉及一种线性蒸镀设备用晶振控制系统。

背景技术

在真空蒸镀设备中，线性蒸镀源多用于在大基板上沉积材料形成连续且均匀的薄膜。在长度方向上随着离线源中心线距离的增加，边缘处的薄膜厚度明显小于中心处，造成薄膜均匀度不理想。在许多功能器件的制备中，一般希望薄膜层厚度的不均匀性被控制在5％以内。

现有的线性蒸镀源长时间连续蒸镀过程中，一般采用单一的晶振探头，探头寿命有限，且当探头出现故障时，在更换探头时将造成蒸镀过程被迫中止，从而导致蒸镀材料和时间的浪费。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足，本实用新型提供了一种线性蒸镀设备用晶振控制系统。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：

线性蒸镀设备用晶振控制系统，包括设置在蒸镀室内的支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、固定设置于蒸镀室内的挡板、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，所述挡板上开设有对应所述晶振探头组件的开口，所述晶振探头组件包括有至少两个呈直线排布的晶振探头，其中一个所述晶振探头与所述开口对应设置；所述驱动机构驱动所述支架沿平行于所述晶振探头排布方向的方向移动。

优选地，所述驱动机构包括有设置于所述蒸镀室外的气缸、设置于蒸镀室一侧的密封组件、设置于蒸镀室内的导向组件、及与所述导向组件相配合的底座，所述支架固定设置在底座上；所述气缸的气缸轴通过密封组件与所述底座连接。

优选地，所述密封组件为套置于所述气缸轴上的波纹管。

优选地，所述底座上设置有两组平行设置的滑杆孔，所述导向组件为平行穿设于所述滑杆孔内的滑杆，所述支架固定设置于所述底座上，所述驱动机构驱动所述晶振探头组件沿所述导向组件运动。

优选地，所述晶振探头组件固定于所述支架上，各所述晶振探头组件中相邻晶振探头之间间距设置，且该间距与所述气缸的行程相等。

优选地，所述晶振探头组件包括一个工作用晶振探头和至少一个备用晶振探头，所述气缸的数量与所述晶振探头组件中备用晶振探头的数量相对应，所述气缸沿所述导向组件首尾相连设置。

优选地，所述驱动机构还包括用于固定所述气缸的气缸座的导轨，远离支架的所述气缸的气缸座固定设置在所述导轨上，其余气缸的气缸座滑动设置在所述导轨上。

优选地，所述驱动机构包括有步进电机、与步进电机连接的传动件、设置于步进电机一侧的密封组件及导向组件；所述步进电机通过所述传动件驱动所述晶振探头组件沿所述导向组件运动。

优选地，所述传动件包括丝杆、与丝杆配合的底座，所述支架固定设置于所述底座上，所述丝杆转动带动底座在导向组件上移动。

优选地，以上任意一所述的线性蒸镀设备用晶振控制系统，所述支架上设置有用于对晶振探头进行冷却的冷却组件。

本实用新型的有益效果体现在：采用多个晶振探头，通过驱动组件进行移动切换，有效的对晶振探头进行更替，保证了蒸镀的连续性，提高了蒸镀效率。

附图说明

图1：本实用新型的立体结构示意图。