[实用新型]多晶硅片打磨装置有效
申请号: | 201822192442.7 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN209266428U | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 杜东恒;陈龙 | 申请(专利权)人: | 无锡尚德太阳能电力有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶硅片 打磨装置 抽风设备 清洗设备 信号采集系统 制绒设备 抽风管 抽风 本实用新型 太阳能电池 硅片制绒 氟化物 清洗室 排出 打磨 环保 安全 保证 | ||
本实用新型涉及太阳能电池用硅片制绒机,具体涉及多晶硅片打磨装置。一种多晶硅片打磨装置,所述多晶硅片打磨装置包括制绒设备、清洗设备和抽风设备,所述制绒设备和清洗设备相连;所述抽风设备包括抽风管、抽风泵和信号采集系统;所述抽风泵和信号采集系统设置在所述抽风管中,抽风设备的抽风端连接所述清洗设备的清洗室。所述多晶硅片打磨装置,能够及时排出并处理氟化物,从而能够保证多晶硅片打磨工艺能够精准、安全、环保地进行。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池用硅片制绒机,具体涉及多晶硅片打磨装置。
背景技术
多晶硅片打磨装置包括制绒设备和清洗设备;所述制绒设备用于将多晶硅片的表面打毛,打毛后的多晶硅片进入所述清洗设备中,通过与氢氟酸反应来清洗掉多余的硅屑。在二氧化硅与氢氟酸反应的同时会产生四氟化硅气体和氢氟酸蒸气等氟化物,若多余的四氟化硅气体和氢氟酸蒸气不及时排出清洗室,会造成硅片表面过度腐蚀,另外还有泄露的风险,所述四氟化硅气体有毒性,氢氟酸具有腐蚀性,一旦泄露对工作人员的人身安全会造成损害。
发明内容
为了解决现有技术中存在的不足,本实用新型提供一种多晶硅片打磨装置,所述多晶硅片打磨装置,能够及时排出并处理氟化物,从而能够保证多晶硅片打磨工艺能够精准、安全、环保地进行。
根据本实用新型提供的技术方案, 一种多晶硅片打磨装置,所述多晶硅片打磨装置包括制绒设备、清洗设备和抽风设备,所述制绒设备和清洗设备相连;
所述抽风设备包括抽风管、抽风泵和信号采集系统;
所述抽风泵和信号采集系统设置在所述抽风管中,抽风设备的抽风端连接所述清洗设备的清洗室。
进一步地,靠近排气端所述抽风管中设有单向阀,气体在所述单向阀位置处的流通方向为所述抽风管的抽风端至抽风管的排气端。
进一步地,所述信号采集系统包括压力传感器和氟化物检测器,所述氟化物检测器和压力传感器安装在抽风管的抽风端位置处。
进一步地,所述抽风设备还包括连在所述抽风管排风端的氟化物反应罐。
进一步地,所述信号采集系统的输出端连接控制器的输入端,所述控制器的控制端连接抽风泵。
进一步地,所述控制器采用型号为STM32的单片机。
从以上所述可以看出,本实用新型提供的多晶硅片打磨装置,与现有技术相比具备以下优点:本实用新型提供的多晶硅片打磨装置能够及时抽出清洗室中清洗产生的气体,防止多余的四氟化硅气体和氢氟酸蒸气充斥清洗室,保证保证多晶硅片打磨工艺能够精准、安全、环保地进行。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的电原理图。
100. 制绒设备,200. 清洗设备,300. 抽风设备,310. 抽风管,311. 单向阀,320. 抽风泵,330. 信号采集系统,331. 压力传感器,332. 氟化物检测器,333. 控制器,340. 氟化物反应罐。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本实用新型进一步详细说明。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向。使用的词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
本实用新型提供一种多晶硅片打磨装置,如图1和图2所示,所述多晶硅片打磨装置包括制绒设备100、清洗设备200和抽风设备300,所述制绒设备100和清洗设备200相连。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的