[实用新型]一种用于管式PECVD的进气装置有效
| 申请号： | 201822194719.X | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN209873096U | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 江庆;徐华浦;赵洪俊;江顺钦 | 申请（专利权）人： | 阜宁苏民绿色能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 32224 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董建林;俞翠华 |
| 地址： | 224400 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 进气孔 管体 管路组件 集气装置 炉口 炉尾 本实用新型 第二管 真空泵 进气 进气装置 炉体顶部 炉体内部 炉体外部 气体分布 气体输送 均匀性 管内 管式 两路 炉管 炉体 连通 保证 | ||
1.一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于，包括：
炉体，所述炉体内为空腔结构，用于放置待镀膜物件，所述炉体顶部位于炉口和炉尾处分别设有第一进气孔和第二进气孔；
第一集气装置；
第二集气装置；
第一管路组件，所述第一管路组件包括第一管体和第二管体，所述第一管体和第二管体的一端均与所述第一集气装置的出口相连，二者的另一端分别与所述第一进气孔和第二进气孔相连通；
第二管路组件，所述第二管路组件包括第三管体和第四管体，所述第三管体和第四管体的一端均与所述第二集气装置的出口相连，二者的另一端分别与所述第一进气孔和第二进气孔相连通；
真空泵，所述真空泵设于所述炉体的外部，且与所述炉体内部连通。
2.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一进气孔和第二进气孔对称设置于炉体的两侧。
3.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一管体和第二管体上均设有流量计；所述第三管体和第四管体上均设有流量计。
4.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一管体和第二管体长度相等；所述第三管体和第四管体长度相等。
5.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一集气装置内填充有SiH4气体。
6.根据权利要求5所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一集气装置为集气瓶。
7.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第二集气装置内填充有NH3气体。
8.根据权利要求7所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第二集气装置为集气瓶。
9.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述真空泵通过导管与所述炉体内部连通。
10.根据权利要求1所述的一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：所述第一集气装置的出口处设有第一三通管，所述第一三通管的一端与第一集气装置的出口相连，其余两端分别与第一管体和第二管体相连通；所述第二集气装置的出口处设有第二三通管，所述第二三通管的一端与第二集气装置的出口相连，其余两端分别与第三管体和第四管体相连通。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
