[实用新型]一种用于PVD真空镀膜的高密封性门

说明书

为了解决以上单层较宽较高的密封圈上面存在灰尘时引起的无法保证PVD真空镀膜机的真空腔室的真空度的情况，本实用新型提出一种用于PVD真空镀膜的高密封性门，其包括：加热器1、衬板2、托盘3、腔体4、支撑架5，其中，托盘3固定在腔体4的内部侧壁的下方，衬板2活动固定在腔体4的内部侧壁上，衬板2上靠近PVD真空镀膜机的主体的一面前端设有加热器1，加热器1的底部固定在腔体4的内部侧壁上，支撑架5固定在腔体4的底部侧壁上；腔体4的侧部侧壁超出衬板2的面积范围的一圈设有内部密封圈41，其特征在于：内部密封圈41的外部还设有一圈外部密封圈42，且外部密封圈42的宽度和高度均小于内部密封圈41的宽度和高度。

技术领域

本实用新型属于表面处理技术领域，较为具体的，涉及到一种用于PVD真空镀膜的高密封性门。

背景技术

在真空腔室内对工件进行真空镀膜的过程中，由于刻蚀过程的存在，所以不可避免的有一些灰尘或者污物会沉积在真空腔室。而真空腔室通常由PVD真空镀膜机的主体和门构成，当门紧紧贴附在主体的四个侧壁上的时候，真空腔室内密封性能良好，不会产生漏气，可以顺利进行抽真空。传统的PVD真空镀膜机的门在门腔体的内侧壁上设有一圈密封圈，该密封圈可以与主体的四个侧壁的平面贴合，在正常情况下可以保持真空腔室的密封性能；但是，由于该密封圈的宽度和高度都相对较大，只要一旦出现密封圈上或者密封圈周围存在灰尘，就会导致真空腔室无法保证密封性能，而真空腔室的密封性能如果无法保证，则会直接影响PVD涂层的性能。通常情况下，这种密封圈是比较难打理的。

发明内容

有鉴于此，为了解决以上单层较宽较高的密封圈上面存在灰尘时引起的无法保证PVD真空镀膜机的真空腔室的真空度的情况，本实用新型提出一种用于PVD真空镀膜的高密封性门，其通过在传统的PVD真空镀膜机的门密封圈的外侧再增加一圈较细较平的密封圈，这样可以在传统的门上的密封圈无法清理干净的时候，依旧能够保证良好的密封性能，确保了真空腔室内的真空度。

一种用于PVD真空镀膜的高密封性门，其包括：加热器1、衬板2、托盘3、腔体4、支撑架5，其中，托盘3固定在腔体4的内部侧壁的下方，衬板2活动固定在腔体4的内部侧壁上，在力的作用下可以控制衬板2上下移动，从而脱离开或者安装到腔体4的内部侧壁上，衬板2上靠近PVD真空镀膜机的主体的一面前端设有加热器1，加热器1的底部固定在腔体4的内部侧壁上，支撑架5固定在腔体4的底部侧壁上；腔体4的侧部侧壁超出衬板2的面积范围的一圈设有内部密封圈41，内部密封圈41的宽度为1-2cm，高度为0.5～1cm，其特征在于：内部密封圈41的外部还设有一圈外部密封圈42，外部密封圈42的宽度为0.3～0.8cm，高度为0.2～0.5cm，且外部密封圈42的宽度和高度均小于内部密封圈41的宽度和高度。

进一步的，加热器1为不锈钢材质的；更进一步的，为了增加加热效果，加热器为蛇形分布。

进一步的，腔体4上的侧面设有把手，方便将高密封性能的门与PVD真空镀膜设备的主体的侧壁进行盖合。

进一步的，内部密封圈41和外部密封圈42均采用塑料或者硅胶材质。

进一步的，腔体4的底部设有通孔，整线管51的一端能够与通孔相连，整线管51固定在支撑架5内部，且通过支撑架后再向下延伸。整线管内部排布有电线和水管等。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型的权利要求。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、同等替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围内。

附图说明

图1为本实用新型的用于PVD真空镀膜的高密封性门的结构示意图。

图2为内密封圈和外密封圈的示意图。

主要元件符号说明：