[实用新型]一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置

权利要求书

1.一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，包括底板（1），其特征在于：所述底板（1）顶部设有第一承载组件（2）与供料组件（3），所述供料组件（3）设于第一承载组件（2）一侧，所述供料组件（3）包括限位底座（4），所述限位底座（4）顶部设有下罐体（5），所述下罐体（5）内部固定设有振动腔（6），所述振动腔（6）内部设有第一振动电机（7），所述下罐体（5）外侧固定设有第二振动电机（8），所述下罐体（5）顶部设有上罐体（9），所述上罐体（9）外侧套接设有限位套（10），所述限位套（10）外侧固定设有旋转盘（11）。

2.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，其特征在于：所述下罐体（5）外侧顶部、上罐体（9）外侧底部和限位套（10）内侧均设有螺纹，所述下罐体（5）和上罐体（9）均与限位套（10）螺纹连接。

3.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，其特征在于：所述上罐体（9）顶部贯穿设有进料管（12）与出料管（13），所述出料管（13）上设有吸泵（14），所述吸泵（14）端部设有给料软管（15）。

4.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，其特征在于：所述第一承载组件（2）包括放置板（16），所述放置板（16）顶部固定设有遮挡罩（25）以及底部固定设有存储腔（17），所述存储腔（17）内部设有导向块（18），所述导向块（18）截面设置为正三角形。

5.根据权利要求4所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，其特征在于：所述存储腔（17）两侧以及底部均固定设有第三振动电机（19），所述放置板（16）顶部设有第二承载组件（20）。

6.根据权利要求5所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置，其特征在于：所述第二承载组件（20）包括承载板（21），所述承载板（21）底部固定设有支撑杆（22）以及侧面固定设有握把（23），所述放置板（16）与承载板（21）上均贯穿设有落料孔（24）。