[实用新型]一种薄膜制备设备

权利要求书

1.一种薄膜制备设备，包括：用于注入反应液进行化学沉积反应以制备薄膜的反应槽(10)；设置在所述反应槽(10)外部的循环装置(20)，所述循环装置(20)的一端与所述反应槽(10)底部连通，其另一端与所述反应槽(10)上部连通，所述循环装置(20)将经反应槽(10)上部的溢流口溢出的反应液输送至外部加热器加热，然后通过反应槽(10)底部的注液口向所述反应槽内(10)注入加热后的反应液，其特征在于，还包括：

至少一个加热装置(30)，设置在所述反应槽(10)下部或底部外侧，用于非接触地对所述反应槽(10)内的反应液加热；

测温仪(40)，设置在所述反应槽(10)上部出口附近，用于检测所述反应槽(10)上部的溢流反应液的温度。

2.根据权利要求1所述的薄膜制备设备，其特征在于，进一步包括：

温控仪(31)，其电连接到所述加热装置(30)，用于控制所述加热装置(30)的开关和输出功率，进而控制反应液温度。

3.根据权利要求2所述的薄膜制备设备，其特征在于，进一步包括：

控制装置，电连接到所述测温仪(40)和所述温控仪(31)，用于根据所述测温仪(40)反馈的反应液温度，通过所述温控仪(31)控制所述热装置(30)的开关和输出功率，进而控制反应液温度。

4.根据权利要求3所述的薄膜制备设备，其特征在于，其中，

当所述测温仪(40)检测到溢流反应液温度达到设定值时，所述控制装置发出指令降低加热装置(30)的输出功率并保持工作状态，配合所述循环装置(20)以维持反应液温度在设定值；

当所述测温仪(40)检测到溢流反应液温度高于设定值时，所述控制装置控制所述加热装置(30)关闭，所述循环装置(20)继续工作，维持所述反应槽(10)内反应液温度、浓度均匀。

5.根据权利要求4所述的薄膜制备设备，其特征在于，其中，

当所述测温仪(40)检测到溢流反应液温度低于设定值时，所述控制装置控制所述加热装置(30)开启或增高输出功率，所述循环装置(20)持续工作，以增加所述反应槽(10)内反应液温度。

6.根据权利要求5所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述反应槽(10)的注液口设置在其下部或底部；所述反应槽(10)的多个注液口与所述至少一个加热装置(30)间隔设置。

7.根据权利要求4所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述循环装置(20)包括至少一个循环泵(50)。

8.根据权利要求6所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述加热装置(30)是微波加热装置、红外加热装置或电加热装置。

9.根据权利要求6所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述反应槽(10)形成为双层壳体，包括金属外层和塑料内层。

10.根据权利要求9所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述反应槽(10)与所述加热装置(30)一体形成。