[实用新型]一种薄膜制备设备有效
申请号: | 201822245710.7 | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN209836303U | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 曾雄;惠述伟;张升飞 | 申请(专利权)人: | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 11489 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 陈超 |
地址: | 517000 广东省河源市高新技术产业*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应槽 循环装置 加热 薄膜制备设备 化学沉积反应 本实用新型 外部加热器 底部连通 加热装置 检测反应 温度均匀 迅速升温 测温仪 非接触 有效地 注液口 时延 溢流 连通 溢出 外部 出口 | ||
本实用新型公开了一种薄膜制备设备,包括:将注入反应液进行化学沉积反应的反应槽(10);设置在反应槽(10)外部的循环装置(20),循环装置(20)的一端与反应槽(10)底部连通,另一端与反应槽(10)上部连通,循环装置(20)将经反应槽(10)上部溢出的反应液输送至外部加热器加热,然后经反应槽(10)底部的注液口注入该反应液,还包括:至少一个加热装置(30),设置在反应槽(10)下部或底部外侧,用于非接触地对反应槽(10)内的反应液加热;测温仪(40),设置在反应槽(10)上部出口附近,用于检测反应槽(10)溢流反应液的温度。采用本实施方案,有效地解决加热时延问题,并使反应槽(10)内反应液迅速升温的同时温度均匀分布。
技术领域
本实用新型涉及化学水浴沉积设备领域,具体涉及一种化学水浴沉积薄膜制备设备领域。
背景技术
化学水浴沉积法(CBD)是利用化学反应在衬底表面沉积成膜的一种方法,现有技术是通过泵将反应液混合于反应槽内,经槽顶部的溢流口溢出至外部加热器加热,后于槽底注液口往槽内输送反应液,以此来调控反应槽内反应液的溶度和温度,继而在玻璃衬底表面沉积上一层均匀、致密的硫化镉薄膜。
但是现有加热方式的存在以下缺陷:
1、无法使反应槽内反应液温度分布均匀,导致反应槽下部分的温度高于反应槽上部分;
2、加热时间长,反应槽内的反应液具有一定的时延性;
3、反应液上下温度的不均匀会直接影响到成膜质量,外观存在色差,膜层不均匀,进而降低薄膜的性能。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种能够使反应槽内反应液快速升温、并且其温度均匀分布、提高成膜质量的薄膜制备设备。
为解决上述问题,本实用新型的提供了一种薄膜制备设备,包括:用于注入反应液进行化学沉积反应以制备薄膜的反应槽;设置在所述反应槽外部的循环装置,所述循环装置的一端与所述反应槽底部连通,其另一端与所述反应槽上部连通,所述循环装置将经反应槽上部的溢流口溢出的反应液输送至外部加热器加热,然后通过反应槽底部的注液口向所述反应槽内注入加热后的反应液,其特征在于,还包括:至少一个加热装置,设置在所述反应槽下部或底部外侧,用于非接触地对所述反应槽内的反应液加热;测温仪,设置在所述反应槽上部出口附近,用于检测所述反应槽上部的溢流反应液的温度。
进一步的,温控仪,其电连接到所述加热装置,用于控制所述加热装置的开关和输出功率,进而控制反应液温度。
进一步的,控制装置,电连接到所述测温仪和所述温控仪,用于根据所述测温仪反馈的反应液温度,通过所述温控仪控制所述热装置的开关和输出功率,进而控制反应液温度。
进一步的,其中,当所述测温仪检测到溢流反应液温度达到设定值时,所述控制装置发出指令降低加热装置的输出功率并保持工作状态,配合所述循环装置以维持反应液温度在设定值;当所述测温仪检测到溢流反应液温度高于设定值时,所述控制装置控制所述加热装置关闭,所述循环装置继续工作,维持所述反应槽内反应液温度、浓度均匀。进一步的,其中,当所述测温仪检测到溢流反应液温度低于设定值时,所述控制装置控制所述加热装置30开启或增高输出功率,所述循环装置持续工作,以增加所述反应槽内反应液温度。
进一步的,所述反应槽的注液口设置在其下部或底部;所述反应槽的多个注液口与所述至少一个加热装置间隔设置。
进一步的,所述循环装置包括至少一个循环泵。
进一步的,所述加热装置是微波加热装置、红外加热装置或电加热装置。
进一步的,所述反应槽形成为双层壳体,包括金属外层和塑料内层。
进一步的,所述反应槽与所述加热装置一体形成。
本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果:
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