[实用新型]一种UV胶压印模具有效
| 申请号： | 201822252470.3 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN209478943U | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 林晓辉;成海涛;顾永新 | 申请（专利权）人： | 上海量子绘景电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C59/02 | 分类号： | B29C59/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201806 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透光基材 压印模具 本实用新型 压印组件 工序步骤 曝光技术 遮光图形 上表面 下表面 遮光层 | ||
【权利要求书】：
1.一种UV胶压印模具，其特征在于，所述UV胶压印模具包括：透光基材及设于所述透光基材表面的压印组件，其中，所述压印组件至少包括设于所述透光基材上表面的遮光层及设于所述透光基材下表面的遮光图形中的一种。
2.根据权利要求1所述的UV胶压印模具，其特征在于，所述压印组件包括：设于所述透光基材上表面的遮光层及设于所述透光基材下表面的透光图形；其中，所述遮光层与所述透光图形在垂直于所述透光基材表面上的投影重合。
3.根据权利要求1所述的UV胶压印模具，其特征在于，所述压印组件包括：设于所述透光基材上表面的遮光层及设于所述透光基材下表面的遮光图形；其中，所述遮光层与所述遮光图形在垂直于所述透光基材表面上的投影重合。
4.根据权利要求1所述的UV胶压印模具，其特征在于，所述遮光图形包括若干凸起结构；其中，所述凸起结构呈独立分布或呈网络状互联分布。
5.根据权利要求2所述的UV胶压印模具，其特征在于，所述透光图形包括若干凸起结构；其中，所述凸起结构呈独立分布或呈网络状互联分布。
6.根据权利要求4或5所述的UV胶压印模具，其特征在于，所述凸起结构的高度介于2μm～50μm之间，所述凸起结构的宽度介于1μm～200μm之间。
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