[实用新型]MEMS麦克风有效

专利信息
申请号: 201822278387.3 申请日: 2018-12-31
公开(公告)号: CN209897223U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 孟珍奎;刘政谚 申请(专利权)人: 瑞声科技(新加坡)有限公司
主分类号: H04R1/08 分类号: H04R1/08;H04R7/08
代理公司: 44298 广东广和律师事务所 代理人: 陈巍巍
地址: 新加坡卡文迪*** 国省代码: 新加坡;SG
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 振膜 支撑件 背板 电容系统 绝缘间隙 一端连接 圆心 基底 通孔 偏转 本实用新型 整体灵敏度 背板间隔 背板两侧 信噪比 背腔 贯穿
【说明书】:

实用新型提供一种MEMS麦克风,包括具有背腔的基底以及设于所述基底上的电容系统,所述电容系统包括背板以及与所述背板相对且分别设置在所述背板两侧的第一振膜和第二振膜,所述第一振膜和第二振膜与背板间隔设置并分别形成第一绝缘间隙和第二绝缘间隙,所述背板开设有若干个通孔,所述第一振膜和所述第二振膜为圆形,所述MEMS麦克风还包括贯穿所述通孔设置于所述第一振膜与所述第二振膜之间的第一支撑件,所述第一支撑件的一端连接于所述第一振膜的圆心,另一端连接于所述第二振膜的圆心。通过设置支撑件,有效避免了振膜不必要的偏转,提高了MEMS麦克风的整体灵敏度和信噪比。

【技术领域】

本实用新型涉及麦克风技术领域,特别是涉及一种具有双振膜的MEMS麦克风。

【背景技术】

MEMS(Micro-Electro-Mechanical System,微机电系统)技术近年来已经获得广泛应用,它采用先进的半导体制造工艺,实现传感器、驱动器等器件的批量制造,与对应的传统器件相比,MEMS器件在体积、功耗、重量以及价格方面有十分明显的优势。市场上,MEMS器件的主要应用实例包括压力传感器、加速度计及硅麦克风等。

采用MEMS技术制造的硅麦克风在小型化、性能、可靠性、环境耐受性、成本及量产能力上与ECM比都有相当优势,迅速占领手机、PDA、MP3及助听器等消费电子产品市场。采用MEMS技术制造的硅麦克风通常具有与固态背板平行地布置的可移动膜片,膜片和背板形成可变电容器。膜片响应于入射的声能而移动,以改变可变电容,并且由此产生用于表示入射声能的电信号。

随着电容式微硅麦克风的技术发展,要求硅麦克风尺寸更小、成本更低、可靠性更高,而硅麦克风尺寸变小,会导致灵敏度下降,信噪比下降。如何进一步提高硅麦克风的信噪比是目前亟待解决的问题。

【实用新型内容】

本实用新型的目的在于提供一种具有高灵敏度和信噪比的MEMS麦克风。其具体方案如下:

一种MEMS麦克风,包括具有背腔的基底以及设于所述基底上的电容系统,所述电容系统包括背板以及与所述背板相对且分别设置在所述背板一侧的第一振膜、设置于所述背板另一侧的,所述第一振膜和第二振膜与背板间隔设置并分别形成第一绝缘间隙和第二绝缘间隙,所述背板开设有若干个通孔,所述第一振膜和所述第二振膜为圆形,所述MEMS麦克风还包括贯穿所述通孔设置于所述第一振膜与所述第二振膜之间的第一支撑件,所述第一支撑件的一端连接于所述第一振膜的圆心,另一端连接于所述第二振膜的圆心。

进一步地,所述MEMS麦克风还包括至少两个贯穿所述通孔设置于所述第一振膜与所述第二振膜之间的第二支撑件,至少两个所述第二支撑件均匀设置于以所述第一支撑件为圆心的圆周上。

进一步地,所述第一支撑件和/或所述第二支撑件为圆柱结构。

进一步地,所述第一支撑件和/或所述第二支撑件不与所述背板接触。

进一步地,所述背板的上、下表面设有若干凸起,所述凸起用于防止所述第一振膜、所述第二振膜与所述背板发生粘附。

进一步地,还包括设置在所述基底表面的绝缘层,所述电容系统通过该绝缘层与所述基底相连。

进一步地,所述背腔贯通所述基底以及所述绝缘层。

本实用新型的有益效果在于:本实用新型通过在振膜的中心位置设置支撑件,有效避免了振膜不必要的偏转,进而提高了MEMS麦克风的整体灵敏度和信噪比。同时这种结构的MEMS麦克风还兼具高声压保护功能,制作工艺不仅简单,而且生产成本低廉。

【附图说明】

图1为本实用新型实施例的一种MEMS麦克风的俯视图;

图2为本实用新型实施例图1中A-A方向的剖视图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞声科技(新加坡)有限公司,未经瑞声科技(新加坡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201822278387.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top