[发明专利]配备利用垂直面蒸发源的高清晰AMOLED元件的集群量产设备

说明书

本发明涉及安装有可量产高清晰AMOLED薄膜的垂直面蒸发源蒸镀机的集群量产设备，是通过在高真空蒸镀箱内利用垂直蒸发源在垂直金属面蒸发源蒸镀有机薄膜后，移送至配备垂直基片和垂直阴影掩模的箱体，并将有机薄膜再蒸发而在基片蒸镀细微图案薄膜的配备AMOLED元件的集群量产设备。本发明可有效克服基片上蒸镀细微图案时因有机气体扩散而导致的细微图案蒸镀困难现象，同时防止大面积基片及掩模产生下垂现象并利用基片与掩模之间的细微空间来大大减少阴影现象，并通过无间断连续作业而缩减空转时间并提高有机物使用效率，同时可持续维持高真空环境而大大缩短生产时间，再加上无需面蒸发源蒸镀方向转换设备及工序而具有大幅缩减整体生产成本和时间的同时提升成品生产比例的效果。

技术领域

本发明涉及安装有可量产高清晰AMOLED薄膜的垂直面蒸发源蒸镀机的集群量产设备，更具体地说是在高真空蒸镀箱内利用垂直蒸发源在垂直金属面蒸发源蒸镀有机薄膜后，移送至配备垂直基片和垂直阴影掩模的箱体，并将有机薄膜再蒸发而在基片蒸镀细微图案薄膜的配备AMOLED元件的集群量产设备。

背景技术

现有的LCD元件均为另需LED等Back light unit的结构，因此制成薄膜型或卷曲形态方面仍具有一定限制。另外，LCD元件对获许电场的液晶分子应对速度较慢，从而导致反应速度慢且视频驱动较慢，此外还有另需滤色镜等结构复杂、生产工序多等缺点。

作为代替原有LCD元件的新一代显示器件而备受瞩目的AMOLED(Active MatrixOrganic Lighting Emitted Diode)，是供应电源即可通过有机物质发光的自发光元件，反应速度极快并支持细微图案结构。另外，AMOLED元件无需滤色镜与Back light unit，生产工序也十分简单，同时支持超薄结构而适合生产超薄显示屏。由于这一特性，AMOLED元件目前正广泛应用于智能手机和大型TV，而且在折叠型和卷曲型显示屏方面的利用率也较高，目前是韩国、中国、日本等国家竞相开发研究与生产的对象。

AMOLED显示屏的普遍制作方法为在玻璃基片或PI基片上构成TFT后，将电极与多层有机物质高真空蒸镀后再蒸镀负极电极层，最后封装完成。其中最为核心的有机薄膜在高真空箱蒸发有机物粉末后，被蒸发的有机物分子将贯通细微的阴影掩模或金属掩模，最后在基片上蒸镀并形成细微的图案薄膜。

为了完成如上的高真空热蒸发蒸镀，高真空箱内必须具备有机物粉末蒸发源、基片设置装置以及精确排列细微阴影掩模和TFT基片的排列装置等。另外，金属掩模(FMM:Fine metal mask)由含镍的铁合金因瓦合金(invar)制成，制作工艺为蚀刻或镭射，为开发高清晰掩模则需要均匀形成极微小图案的技术。不仅如此，还需要排列TFT基片与细微掩模所需的后台技术和次微米级精密度调控技术。

另外，还需要开发可在大面积基片上均匀蒸镀有机薄膜的同时，在对温度极度敏感的有机分子不受损的前提下进行精密控温的高真空热蒸镀技术。不仅如此，因生产用蒸镀机连接几十个高真空箱而使用，还需具备维持高真空环境的零部件和箱体设计、生产技术以及防险技术和自动化技术。

尤其是，智能手机用AMOLED元件的清晰度约达600ppi，而利用量子点(QuantumDot)物质无法实现高清晰，因此诸多国家正在提高AMOLED清晰度方面展开着激烈角逐，由此可以判断AMOLED元件的全盛时代将长期维持。另外，VR市场也具有短程视距方面的需求，从而加深了高清晰显示器件开发的需求度。例如，AMOLED的清晰度达2250ppi才能迎来VR时代的全盛期，而目前还不存在可生产清晰度达2250ppi的AMOLED生产设备开发技术，这说明对可量产超高清晰AMOLED元件的生产设备及工程技术的需求十分迫切。

图1是生产清晰度为600ppi的AMOLED元件的现有AMOLED薄膜生产蒸镀技术的举例说明。