[发明专利]真空蒸镀用的掩模的清洗方法和冲洗组合物

说明书

清洗方法，该方法是真空蒸镀用的掩模的清洗方法，其中用含有选自N‑甲基‑2‑吡咯烷酮和N,N‑二甲基甲酰胺的至少1种的清洗组合物清洗掩模，用含有选自HFE‑347pc‑f、HFE‑254pc、HFE‑356pcf和HFE‑449mec‑f的至少1种氢氟醚的冲洗组合物对清洗后的掩模进行冲洗。该清洗方法中，有机EL元件制造时的真空蒸镀工序中使用的掩模的清洗中，冲洗清洗组合物时，能够在有效成分不分解的情况下将掩模清洗得极为干净。

技术领域

本发明涉及真空蒸镀用的掩模的清洗(日文：洗浄)方法和冲洗(日文：リンス)组合物。

背景技术

近年来，作为平板显示器，液晶显示装置或具备有机EL元件的显示装置受到瞩目。液晶显示装置的电力消耗少，但是为了获得明亮的画面，需要外部照明(背光)。对此，具备有机EL元件的显示装置的有机EL元件是自发光型的元件，因此不需要像液晶显示装置那样的背光。因此，具备有机EL元件的显示装置在具有省电特征的同时，还具有高辉度和广视角的特征。

有机EL元件在阳极和阴极间具备含有由有机化合物构成的发光层的功能层。作为形成这种功能层的方法，已知有真空蒸镀法等气相法(也称作干法)、使用功能层形成材料溶解或分散于溶剂中而得的溶液的液相法(也称作湿法或涂布法)(例如参照专利文献1～3)。

通过真空蒸镀形成功能层的情况下，使掩模靠近基板，介由掩模对阴极、空穴(日文：正孔)注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、阳极各层进行图案形成。此时使用的特别是用于RGB层的细微图案化的蒸镀用掩模非常精密，因此难以制造且非常昂贵。但是，在有机EL元件的有机层的图案形成中，如果多次使用同一掩模进行蒸镀，则有机物在掩模上堆积并附着，无法准确地将精密的掩模图案转印至基板。因此，为了实现高度精密的掩模图案，不得不废弃使用了数次的昂贵的掩模，这是从生产成本方面看难以量产的原因之一。

于是，尝试了通过反复使用掩模以降低成本，提出了用于清洗有机EL元件制造的真空蒸镀工序中附着于掩模的各种有机物的清洗液组合物(例如，参照专利文献4)。

专利文献4中记载了用清洗液组合物清洗了掩模后，用氢氟醚进行冲洗。但是，专利文献4中作为冲洗液使用的“ノベックHFE7100”(C₄F₉OCH₃)例如在N-甲基-2-吡咯烷酮和N,N-二甲基甲酰胺的存在下会分解生成氟离子(例如，参照专利文献5)。因此，上述方法有时无法将掩模表面清洗干净。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2002-110345号公报

专利文献2：日本专利特开2002-305079号公报

专利文献3：日本专利特开2002-313564号公报

专利文献4：日本专利特开2005-162947号公报

专利文献5：日本专利特表2009-518857号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明为解决上述问题而完成，目的在于提供例如有机EL元件制造时的真空蒸镀工序中使用的掩模的清洗方法和冲洗组合物，其中，用冲洗组合物冲洗被清洗组合物清洗过的掩模时，能够在冲洗组合物的有效成分不分解的情况下将掩模清洗得极为干净。

解决技术问题所采用的技术方案