[发明专利]平面度测定方法以及销高度调整方法有效

专利信息
申请号: 201880001042.3 申请日: 2018-02-21
公开(公告)号: CN109073351B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 金内伸朗 申请(专利权)人: 株式会社阿迪泰克工程
主分类号: G01B5/28 分类号: G01B5/28;G01C9/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 平面 测定 方法 以及 高度 调整
【说明书】:

本发明提供能够简便地测定大量的销的上端所构成的假想面那样的面的平面度的实用的技术。在使在具有平坦的上表面以及下表面且厚度均匀的测定板(5)上安装有水平仪(6)的测定单元(4)载置在大量的销(3)中的相邻的三根销(3)上的状态下,利用水平仪(6)对正交的两个水平方向上的测定板(5)的倾斜进行测定,对各三根销(3)依次进行该步骤。在第二次以后的步骤中,重复选择此前选择过的销(3)中的一个并且针对所有的销(3)对测定板(5)的倾斜进行测定。根据测定板(5)的倾斜,将上端处于最高的位置的销(3)与上端处于最低的位置的销(3)之间的高度的差异作为平面度而计算。

技术领域

本申请的发明涉及求出大量的销的上端所构成的假想面等的面的平面度的技术。

背景技术

某个面以较高的精度成为平面作为产品的性能而经常被要求。该情况下的某个面有时为假想的面(假想面),也有时为实际的部件的表面。

大量的销的上端所构成的假想面具有较高的平面度例如在一边使用这样的销来保持对象物一边操作对象物的装置中变得需要。示出更具体的例子,在各种电子产品、各种显示器产品的制造中,为了在基板的表面制造微小形状,而进行光刻。在光刻中,存在将基板保持为水平并且将规定的图案的光照射于基板的曝光工序。在曝光工序中,根据使相对于基板的接触面积尽可能小等的要求,有时采用通过垂直的姿势的大量的销来保持基板的构造。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2015-18927号公报

发明内容

发明要解决的问题

在上述那样的曝光装置中,从获得精度高的曝光图案的观点出发,基板需要以较高的精度保持水平姿势。这意味着:在为通过大量的销来保持基板的构造的情况下,由这些销的上端所构成的假想面需要具有较高精度的平面度。

然而,发明者进行了调查,能够简便地测定这样的大量的销的上端所构成的假想面的平面度的实用的技术至今不存在。

本申请的发明是考虑到这点而完成的,其课题在于提供能够简便地测定大量的销的上端所构成的假想面那样的面的平面度的实用的技术。

用于解决问题的手段

为了解决上述课题,该申请的技术方案1所述的发明是平面度测定方法,将水平方向的配置为已知且垂直延伸的大量的销的上端的高度方向的位置的不同作为该大量的销的前端所构成的假想面的平面度来测定,其中,

所述平面度测定方法是使用测定单元的方法,所述测定单元包含具有平坦的上表面和下表面且厚度均匀的测定板;和安装在测定板之上的水平仪,

所述平面度测定方法包括三点测定步骤,在所述三点测定步骤中,选择大量的销中的相邻的三根销,在使测定单元载置于选择出的三根销之上的状态下,通过水平仪对正交的两个水平方向上的测定板的倾斜进行测定,

所述平面度测定方法通过依次对各三根销进行三点测定步骤来测定平面度,

第二次以后的三点测定步骤是重复选择此前选择出的销中的一个而进行测定的步骤,

所述平面度测定方法是通过依次进行三点测定步骤而针对所有的销,通过水平仪对测定板的倾斜进行测定的方法,

所述平面度测定方法包括:根据各三点测定步骤中的在上述两个水平方向上的侧顶板的倾斜,来对上端处于最高的位置的销与上端处于最低的位置的销之间的该高度的差异进行计算的步骤。

另外,为了解决上述课题,技术方案2所述的发明是平面度测定方法,对具备水平方向的配置为已知的大量的测定点标记的物体的上表面的水平方向上的平面度进行测定,其中,

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