[发明专利]基板处理装置及支撑销

权利要求书

1.一种基板处理装置，所述基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：

处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；

后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；

掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和

支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力，

所述支撑机构具有支撑销，

所述支撑销沿与所述掩模的面正交的方向延伸，具有在所述支撑机构支撑所述基板时与所述基板的所述背面抵接的前端，所述支撑销被配置为在轴向上能够伸长及能够退避，从而能够调整作用于所述基板的所述背面的所述按压力，

所述支撑机构具有：

夹紧件支撑部，追随所述支撑销的伸长及退避而在与所述轴向相同的方向上能够伸长及能够退避；和

夹紧件，由所述夹紧件支撑部支撑，并支撑所述基板的边缘部。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，

所述支撑销具有：

支撑轴，具有在所述支撑销按压所述基板的所述背面时与所述基板的所述背面抵接的前端；和

轴支撑部，具备具有可挠性的弹性部件，并且以使所述支撑轴在所述支撑销的所述轴向上能够伸长及能够退避的方式支撑所述支撑轴，

通过所述支撑轴的伸长及退避，所述支撑销能够调整作用于所述基板的所述背面的所述按压力。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，

所述支撑销以与所述基板的所述背面相对的方式设置在所述支撑机构的多个部位上。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，

所述支撑销具有支撑轴，所述支撑轴具有在所述支撑销按压所述基板的所述背面时与所述基板的所述背面抵接的前端，

所述支撑轴的前端被形成为球面状。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，

所述夹紧件支撑部具备具有可挠性的弹性部件，所述弹性部件追随所述支撑销的伸长及退避而在所述轴向上能够伸长及能够退避。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，

在所述基板的周边部的多个部位上设置有所述夹紧件。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，

在所述处理室中进行蒸镀处理。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，

在所述处理室中进行溅射处理。

9.一种支撑销，使用于权利要求1至权利要求8中的任一项所述的基板处理装置，具有：

支撑轴，以沿与所述掩模的面正交的方向延伸的方式安装于所述基板处理装置，所述支撑轴具有在支撑基板时与所述基板的背面抵接的前端；和

轴支撑部，具备具有可挠性的弹性部件，并且以使所述支撑轴在轴向上能够伸长及能够退避的方式支撑所述支撑轴，

通过所述支撑轴的伸长及退避，能够调整作用于所述基板的所述背面的所述按压力。