[发明专利]成膜方法有效
申请号: | 201880006036.7 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN110291221B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 室谷裕志;堀口由纪夫;菅原卓哉 | 申请(专利权)人: | 学校法人东海大学;株式会社新柯隆 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/22 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 孟伟青;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 方法 | ||
提供一种机械强度高、折射率低的表面层的成膜方法。在基板(S)的表面重复下述工序而形成折射率小于成膜材料的折射率的膜,上述工序为:通过真空蒸镀法将蒸镀材料成膜的工序;和通过溅射将靶材构成物质成膜的工序。
技术领域
本发明涉及低折射率的成膜方法。
背景技术
作为摄像元件使用的CCD、CMOS与银盐胶片相比表面的光反射强,因而容易发生光斑、重影。另外,在曲率半径小的透镜的情况下,光线的入射角度根据位置而大幅不同,因此在透镜表面的倾斜大的部分无法保持低反射率。此外,在LCD之类的平面显示器中,显示器表面的光反射导致的外部光的反射眩光成为问题,因此实施了防眩光处理,但若显示器的高密度化推进,则透过液晶的光在经防眩光处理的表面发生漫反射,会妨碍图像的分辨率提高。为了减小这种基板表面的反射,需要将低折射率的表面层成膜(非专利文献1)。另外,关于折射率高于玻璃的成膜材料Al2O3、ZrO2、Ta2O5、TiO2、Nb2O5或HfO2等,针对希望不受现有材料的折射率的限制而自由地选择所期望的折射率来进行光学薄膜的设计的要求,期望形成折射率低于这些成膜材料自身的折射率的薄膜。
现有技术文献
非专利文献
非专利文献1:反射低減技術の新展開(反射降低技术的新展开)(菊田久雄著、日本光学会会志“光学”第40卷第1号、2011年1月)
发明内容
发明所要解决的课题
已知使用折射率为1.38的氟化镁之类的低折射材料在折射率为1.5的玻璃上形成表面层。但是,即便使用1.38的低折射率材料也残存1.4%的反射。目前,并不存在1.1~1.2的低折射率的薄膜材料。另外,还已知通过溶胶凝胶法形成多孔质的低折射率膜,但由于其不具有能够承受超声波清洗或手巾等的清洗的机械强度,因此作为基板的表面层并不实用。
本发明所要解决的课题在于提供一种低折射率的成膜方法。
用于解决课题的手段
本发明通过在基板的表面重复下述工序而形成折射率小于成膜材料的折射率的膜,由此可解决上述课题,上述工序为:通过真空蒸镀法将蒸镀材料成膜的工序;和通过溅射将靶材构成物质成膜的工序。
发明的效果
根据本发明,能够将低折射率的膜成膜。
附图说明
图1是示出在本发明的成膜方法的一个实施方式中使用的成膜装置的一例的示意性纵截面图。
图2是沿图1的II-II线的截面图。
图3是示出本发明的成膜方法的一个实施方式的工序图。
图4是实施例1、比较例1和比较例2中得到的薄膜的SEM照片。
图5是实施例1、比较例1和比较例2中得到的薄膜的X射线衍射图。
图6是示出实施例、比较例1和比较例2中得到的薄膜以及基板的透射率的曲线图。
具体实施方式
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