[发明专利]成膜方法有效

专利信息
申请号: 201880006036.7 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN110291221B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 室谷裕志;堀口由纪夫;菅原卓哉 申请(专利权)人: 学校法人东海大学;株式会社新柯隆
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/22
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 孟伟青;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 方法
【说明书】:

提供一种机械强度高、折射率低的表面层的成膜方法。在基板(S)的表面重复下述工序而形成折射率小于成膜材料的折射率的膜,上述工序为:通过真空蒸镀法将蒸镀材料成膜的工序;和通过溅射将靶材构成物质成膜的工序。

技术领域

本发明涉及低折射率的成膜方法。

背景技术

作为摄像元件使用的CCD、CMOS与银盐胶片相比表面的光反射强,因而容易发生光斑、重影。另外,在曲率半径小的透镜的情况下,光线的入射角度根据位置而大幅不同,因此在透镜表面的倾斜大的部分无法保持低反射率。此外,在LCD之类的平面显示器中,显示器表面的光反射导致的外部光的反射眩光成为问题,因此实施了防眩光处理,但若显示器的高密度化推进,则透过液晶的光在经防眩光处理的表面发生漫反射,会妨碍图像的分辨率提高。为了减小这种基板表面的反射,需要将低折射率的表面层成膜(非专利文献1)。另外,关于折射率高于玻璃的成膜材料Al2O3、ZrO2、Ta2O5、TiO2、Nb2O5或HfO2等,针对希望不受现有材料的折射率的限制而自由地选择所期望的折射率来进行光学薄膜的设计的要求,期望形成折射率低于这些成膜材料自身的折射率的薄膜。

现有技术文献

非专利文献

非专利文献1:反射低減技術の新展開(反射降低技术的新展开)(菊田久雄著、日本光学会会志“光学”第40卷第1号、2011年1月)

发明内容

发明所要解决的课题

已知使用折射率为1.38的氟化镁之类的低折射材料在折射率为1.5的玻璃上形成表面层。但是,即便使用1.38的低折射率材料也残存1.4%的反射。目前,并不存在1.1~1.2的低折射率的薄膜材料。另外,还已知通过溶胶凝胶法形成多孔质的低折射率膜,但由于其不具有能够承受超声波清洗或手巾等的清洗的机械强度,因此作为基板的表面层并不实用。

本发明所要解决的课题在于提供一种低折射率的成膜方法。

用于解决课题的手段

本发明通过在基板的表面重复下述工序而形成折射率小于成膜材料的折射率的膜,由此可解决上述课题,上述工序为:通过真空蒸镀法将蒸镀材料成膜的工序;和通过溅射将靶材构成物质成膜的工序。

发明的效果

根据本发明,能够将低折射率的膜成膜。

附图说明

图1是示出在本发明的成膜方法的一个实施方式中使用的成膜装置的一例的示意性纵截面图。

图2是沿图1的II-II线的截面图。

图3是示出本发明的成膜方法的一个实施方式的工序图。

图4是实施例1、比较例1和比较例2中得到的薄膜的SEM照片。

图5是实施例1、比较例1和比较例2中得到的薄膜的X射线衍射图。

图6是示出实施例、比较例1和比较例2中得到的薄膜以及基板的透射率的曲线图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于学校法人东海大学;株式会社新柯隆,未经学校法人东海大学;株式会社新柯隆许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880006036.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top