[发明专利]硅基板中间研磨用组合物及硅基板研磨用组合物套组

权利要求书

1.一种硅基板中间研磨用组合物，其为在包含中间研磨工序与精研磨工序的硅基板的研磨工艺中用于所述中间研磨工序的中间研磨用组合物，

所述中间研磨用组合物包含磨粒A₁、碱性化合物B₁和表面保护剂S₁；

所述表面保护剂S₁包含重均分子量高于30×10⁴的水溶性高分子P₁，与分散剂D₁，

所述表面保护剂S₁的分散性参数α₁不足80％。

2.根据权利要求1所述的中间研磨用组合物，其中，所述分散剂D₁的含量为所述水溶性高分子P₁的含量的0.8倍以下。

3.根据权利要求1或2所述的中间研磨用组合物，其中，所述分散剂D₁的重均分子量为3×10⁴以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的中间研磨用组合物，其中，所述表面保护剂S₁包含纤维素衍生物作为所述水溶性高分子P₁。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的中间研磨用组合物，其中，所述表面保护剂S₁的含量在所述磨粒A₁的含量每100g中为0.005g以上且5g以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的中间研磨用组合物，其中，所述磨粒A₁为二氧化硅颗粒。

7.一种硅基板研磨用组合物套组，其包含：根据权利要求1至6中任一项所述的中间研磨用组合物，与用于所述精研磨工序的精研磨用组合物，其中，

所述精研磨用组合物包含磨粒A₂、碱性化合物B₂和表面保护剂S₂，

所述表面保护剂S₂包含水溶性高分子P₂，

所述表面保护剂S₁的分散性参数α₁与所述表面保护剂S₂的分散性参数α₂的关系为满足下式：(α₁/α₂)≥0.5。

8.根据权利要求7所述的研磨用组合物套组，其中，所述表面保护剂S₂的分散性参数α₂为1％以上且30％以下。