[发明专利]有机器件的制造方法及成膜装置在审
申请号: | 201880008184.2 | 申请日: | 2018-01-05 |
公开(公告)号: | CN110214471A | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 森岛进一;岸川英司;下河原匡哉 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;C23C14/04;C23C14/56;H01L51/48;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹阳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 挠曲性 遮蔽 基板 成膜工序 有机器件 遮蔽区域 成膜源 电极层 成膜装置 基板分离 基板供给 运送方向 成膜 主面 制造 运送 配置 | ||
本发明的一个实施方式的有机器件(10)的制造方法具有一边连续运送挠曲性基板(12)、一边在形成于挠曲性基板的主面(12a)的第1电极层(14)上将第1~第N层(N为2以上的整数)连续地成膜的成膜工序,成膜工序中,夹隔着配置于第1~第N成膜源与挠曲性基板之间的第1~第N遮蔽部,从第1~第N成膜源向挠曲性基板供给第1~第N层的材料,由此将第1~第N层分别依次在所述第1电极层上成膜,第1~第N遮蔽部在与挠曲性基板分离的状态下,在挠曲性基板的运送方向上被固定,利用第1~第N遮蔽部当中的至少一个遮蔽部的遮蔽区域与利用其他遮蔽部的遮蔽区域不同。
技术领域
本发明涉及有机器件的制造方法及成膜装置。
背景技术
作为有机器件的例子可以举出有机电致发光元件(有机EL器件)、有机太阳能电池、有机晶体管等。有机器件具有第1电极层、具有给定的功能的功能层(例如就有机EL器件而言是空穴注入层、发光层、电子注入层等)和第2电极层,它们设于基板上。在制造有机器件时,为了在第1电极层上形成层叠结构而具有成膜工序。作为成膜工序的例子,如专利文献1中记载所示,已知有利用了作为干式成膜法的一种的真空成膜法的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2012/008275号
发明内容
发明所要解决的问题
真空成膜法中,基板上的成膜区域以外需要用遮蔽部遮蔽。作为该遮蔽方法,例如可以考虑将作为遮蔽部的掩模与基板对准、使掩模密合于基板而遮蔽基板的一部分的方法。该情况下,由于无法一边连续运送基板一边在基板上成膜,因此有机器件的生产率降低。此外,由于使掩模直接接触基板,因此有可能在基板中产生损伤,在有机器件中无法实现所期望的性能。
因而,本发明的目的在于,提供能够在谋求生产率的提高的同时实现所期望的性能的有机器件的制造方法及成膜装置。
用于解决问题的方法
本发明的一个方面的有机器件的制造方法具备在形成于沿一个方向延伸的挠曲性基板的主面的第1电极层上形成包含器件功能部及第2电极层的层叠结构的工序,上述器件功能部包含至少一个功能层,上述形成层叠结构的工序具有一边连续运送形成有上述第1电极层的上述挠曲性基板、一边在上述第1电极层上将第1~第N层(N为2以上的整数)成膜的工序,上述成膜的工序中,一边利用配置于第1~第N成膜源与上述挠曲性基板之间的第1~第N遮蔽部遮蔽上述主面的一部分区域,一边从上述第1~第N成膜源将上述第1~第N层的材料向上述第1~第N层用的成膜区域选择性地供给,由此将上述第1~第N层分别依次在上述第1电极层上成膜,上述第1~第N遮蔽部在与上述挠曲性基板分离的状态下,相对于上述挠曲性基板的运送方向被固定,利用上述第1~第N遮蔽部当中的至少一个遮蔽部的上述主面上的遮蔽区域与利用所述第1~第N遮蔽部当中的至少一个其他遮蔽部的遮蔽区域不同。
上述制造方法中,由于在上述成膜的工序中,一边连续运送上述挠曲性基板一边形成第1~第N层,因此可以缩短第1~第N层的形成所需的时间。由于第1~第N遮蔽部当中的至少一个遮蔽区域与利用第1~第N遮蔽部当中的至少一个其他遮蔽部的遮蔽区域不同,因此能够将第1~第N层的至少一层以与第1~第N层当中的至少一个其他层不同的大小形成。此外,由于第1~第N遮蔽部相对于上述挠曲性基板的运送方向被固定,因此与使第1~第N遮蔽部沿上述挠曲性基板的运送方向移动的情况相比,另外,与使挠曲性基板与遮蔽部接触的情况相比,附着于第1~第N遮蔽部的第1~第N层的材料难以造成灰尘等,能够制造具有所期望的性能的有机器件。
上述成膜的工序中,可以一边将上述挠曲性基板卷绕于上述第1~第N成膜辊的辊表面一边将上述第1~第N层成膜。所谓“将挠曲性基板卷绕于成膜辊”,是指以使挠曲性基板的长度方向与成膜辊的旋转方向朝向相同方向、且使挠曲性基板覆盖成膜辊的方式接触成膜辊的辊表面的一部分的状态。
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