[发明专利]曝光设备

权利要求书

1.一种曝光设备，包括：

第一衬底保持器，被配置成保持衬底；

第二衬底保持器，被配置成保持所述衬底；

传感器保持器，被配置成保持传感器；

投影系统，被配置成利用曝光束曝光所述衬底；

测量装置，被配置成提供所述衬底的测量信息；

还一测量装置，被配置成提供衬底的还一测量信息，

其中所述传感器被配置成测量曝光束和/或投影系统的性质，

其中所述投影系统被配置成利用曝光束曝光所述传感器。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述曝光设备被布置成在所述测量装置获取所述衬底的所述测量信息的同时将所述衬底保持在所述第一衬底保持器上，并且其中所述曝光设备被布置成在所述还一测量装置采集所述衬底的所述还一测量信息的同时将所述衬底保持在所述第二衬底保持器上。

3.根据权利要求1或2所述的曝光设备，其中，所述测量装置和所述还一测量装置中的至少一个被配置成提供关于所述衬底的变形的信息。

4.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中测量装置比还一测量装置远离投影系统。

5.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中，所述还一测量装置包括调平传感器系统，所述调平传感器系统被配置成提供与所述衬底成倾斜的角度的辐射束，并且被配置成提供关于所述衬底的平整度的信息。

6.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中测量装置和还一测量装置中的至少一个包括对准传感器，所述对准传感器被配置成测量衬底上的衬底对准标记的位置。

7.根据权利要求6所述的曝光设备，其中，所述测量装置被配置成基于所述衬底对准标记的测量来提供精对准信息，

其中所述还一测量装置被配置成基于衬底对准标记的测量来提供粗对准信息，

其中，所述曝光设备包括控制单元，所述控制单元被配置成基于所述精对准信息创建精失真分布图，基于所述粗对准信息创建粗失真分布图，以及通过组合所述精失真分布图和所述粗失真分布图来创建组合失真分布图。

8.根据权利要求7所述的曝光设备，包括仿真模型，所述仿真模型被配置成预测由曝光束在衬底上所创建的图案，其中，控制单元被配置成基于精失真分布图和/或组合失真分布图来校准或更新仿真模型。

9.根据权利要求7或8所述的曝光设备，其中，所述控制单元被配置成基于所述精失真分布图和/或所述组合失真分布图控制所述投影系统的光学性质。

10.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中所述曝光设备包括：

支撑结构，所述支撑结构被配置成保持图案形成装置，其中所述图案形成装置被配置成将图案赋予所述曝光束以便将图案成像到所述衬底上，

其中所述支撑结构被配置成主动地弯曲所述图案形成装置。

11.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中投影系统包括：

透镜镜筒；

光学元件；和

透镜保持器，其被构造成保持光学元件，

其中透镜保持器包括致动器，所述致动器用以控制光学元件相对于透镜镜筒的位置和/或取向。

12.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，包括液体处理系统，所述液体处理系统被配置成将浸没液体供给和限制到限定在第一衬底保持器、第二衬底保持器、衬底和传感器保持器中的至少一个与投影系统之间的空间。

13.根据权利要求12所述的曝光设备，其中该液体处理系统包括回收口，用以从所述空间回收所述浸没液体，其中多孔构件设置于该回收口中。

14.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中投影系统包括可变形反射镜。

15.根据前述权利要求中任一项所述的曝光设备，其中曝光束的性质是剂量、像差和均匀性中的至少一种。