[发明专利]曝光设备

说明书

提供一种曝光设备，包括第一衬底保持器、第二衬底保持器、传感器保持器、投影系统、测量装置和还一测量装置。所述第一衬底保持器被配置成保持衬底。所述第二衬底保持器被配置成保持所述衬底。所述传感器保持器被配置成保持传感器。投影系统被配置成利用曝光束曝光所述衬底。所述测量装置被配置成提供衬底的测量信息。所述还一测量装置被配置成提供该衬底的还一测量信息。所述传感器被配置成测量曝光束和/或投影系统的性质。所述投影系统被配置成利用曝光束使传感器曝光。

相关申请的交叉引用

本申请要求文档1即申请日为2017年2月3日的EP申请17154551.0的优先权，要求文档2即申请日为2017年5月2日的EP申请17169025.8的优先权，要求文档3即申请日为2017年9月29日的EP申请17193990.3的优先权，要求文档4即申请日为2017年11月10日的EP申请17201092.8的优先权，在此将它们整体作为参考。

技术领域

本发明涉及曝光设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备能够用在例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将这种图案转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。所述图案的转印通常是经由将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包括被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机和所谓的扫描器；在步进机中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向来同步地扫描所述衬底来辐射每个目标部分。通过照射辐射束将所需的图案施加到衬底上的光刻设备也被称为曝光设备。曝光设备可以是步进机或扫描器。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底上。通过将图案压印到衬底上而将所需图案施加到衬底上的光刻设备可以称为压印型光刻设备。一次将整个图案压印到衬底的目标部分上的压印型光刻设备可以被称为压印型步进机。

存在降低每IC的生产成本的趋势。为了降低每个IC的生产成本，已知的光刻设备已经被设计成尽可能快且尽可能频繁地执行曝光过程，即，在衬底上曝光图案。为了尽可能频繁地进行曝光过程，光刻设备可以具有多个衬底台，如美国专利5,677,758中所披露的。在一个衬底台上的衬底被曝光的同时，第二衬底在第二衬底台上被加载、卸载或对准。当一个衬底已经被完全曝光时，曝光过程仅仅被短暂地中断，以将一个衬底台从投影系统移开，并将另一衬底台移动到投影系统下方。这样，仅在短暂中断期间，光刻设备不执行曝光过程。

发明内容

尽管曝光过程仅被短暂中断，但仍希望以进一步降低的每IC生产成本来曝光衬底以产生IC。通常，当处理量和/或正常运行时间被改善时，光刻设备的总体生产率得以改善。为了制造IC通常需要转印到衬底上的图案的良好成像品质。更精确地测量衬底能够实现更好的成像品质；然而，如果通过使测量时间更长来实现对衬底的较准确的测量，则较长的测量时间将使总体生产率劣化。换言之，在已知的光刻设备中，在总体生产率和成像品质之间存在折衷。