[发明专利]分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法

权利要求书

1.一种分离膜组件的检查方法，该分离膜组件具备：具有多孔质基材和沸石膜的分离膜结构体、以及组装有所述分离膜结构体的壳体，

所述分离膜组件的检查方法的特征在于，

具备：

封入工序，该工序中，在所述沸石膜的一次侧封入检查用气体，

在所述封入工序之后，计算出所述检查用气体在所述沸石膜的二次侧的合计泄漏量的工序，

基于下式1计算出由所述沸石膜的膜缺陷所引起的膜缺陷泄漏量的工序，

通过所述合计泄漏量减去所述膜缺陷泄漏量而计算出由所述分离膜结构体的密封不良所引起的密封泄漏量的工序，以及

基于所述密封泄漏量来评价所述分离膜组件中的气体泄漏的工序，

所述检查用气体的动态分子直径大于所述沸石膜的细孔径的1.07倍，

所述检查用气体具有如下特性，即，将所述分离膜结构体在25℃、0.1MPaG的所述检查用气体中静置了60分钟的情况下，所述沸石膜的CO₂气体透过速度降低率低于10％，

Tb＝A×(PH+PL)+B 式1

其中，式1中，Tb为由所述沸石膜的膜缺陷所引起的泄漏量，PH为所述一次侧的压力，PL为所述二次侧的压力，A和B分别为常数。

2.根据权利要求1所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

所述封入工序中，所述检查用气体不包含蒸气压100kPa以下的成分。

3.根据权利要求1所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

基于所述一次侧的所述检查用气体的压力变化来取得所述合计泄漏量。

4.根据权利要求1所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

在所述封入工序之后，具备回收工序，该工序中，将所述检查用气体回收。

5.根据权利要求4所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

所述回收工序中，将所述检查用气体回收到封入有与所述检查用气体同种的气体的回收用罐中。

6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

所述封入工序中，所述一次侧的所述检查用气体的压力为1MPaG以上。

7.根据权利要求1至5中的任意一项所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

所述多孔质基材为具有多个隔室的整体型，

所述沸石膜形成于所述多个隔室各自的内表面。

8.根据权利要求1至5中的任意一项所述的分离膜组件的检查方法，其特征在于，

所述沸石膜的所述细孔径为0.5nm以下。

9.一种分离膜组件的制造方法，其特征在于，具备：

组装工序，该工序中，将具有多孔质基材和沸石膜的分离膜结构体组装于壳体；

封入工序，该工序中，在所述沸石膜的一次侧封入检查用气体，

在所述封入工序之后，计算出所述检查用气体在所述沸石膜的二次侧的合计泄漏量的工序，

基于下式1计算出由所述沸石膜的膜缺陷所引起的膜缺陷泄漏量的工序，

通过所述合计泄漏量减去所述膜缺陷泄漏量而计算出由所述分离膜结构体的密封不良所引起的密封泄漏量的工序，以及

基于所述密封泄漏量来评价所述分离膜组件中的气体泄漏的工序，

所述检查用气体的动态分子直径大于所述沸石膜的细孔径的1.07倍，

所述检查用气体具有如下特性，即，将所述分离膜结构体在25℃、0.1MPaG的所述检查用气体中静置了60分钟的情况下，所述沸石膜的CO₂气体透过速度降低率低于10％，

Tb＝A×(PH+PL) +B 式1

其中，式1中，Tb为由所述沸石膜的膜缺陷所引起的泄漏量，PH为所述一次侧的压力，PL为所述二次侧的压力，A和B分别为常数。