[发明专利]分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法

说明书

分离膜组件(10)的检查方法具备在沸石膜(12)的一次侧封入检查用气体的封入工序。检查用气体的动态分子直径大于沸石膜(12)的细孔径的1.07倍。检查用气体具有如下特性，即，将分离膜结构体(1)在25℃、0.1MPaG的检查用气体中静置了60分钟的情况下，沸石膜(12)的CO₂气体透过速度降低率低于10％。

技术领域

本发明涉及分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法。

背景技术

专利文献1中提出如下方法，即，对于将作为分离膜的中空纤维膜组装于壳体得到的分离膜组件，基于封入至分离膜的一次侧的检查用气体的压力变化，来检查分离膜组件中的气体泄漏。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004－216284号公报

发明内容

然而，专利文献1的方法中，由于没有对检查用气体的分子直径与分离膜的细孔径之间的关系进行研究，所以有时检查用气体透过分离膜的细孔，无法精度良好地检查气体泄漏。

另外，专利文献1的方法中，由于没有对检查用气体相对于分离膜的吸附性/冷凝性进行研究，所以有时检查用气体吸附/冷凝于分离膜而导致细孔堵塞，在检查后，分离膜的透过性能降低。

本发明是鉴于上述状况而实施的，其目的在于，提供一种能够抑制分离膜的透过性能降低且精度良好地检查气体泄漏的分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法。

本发明所涉及的分离膜组件的检查方法是如下分离膜组件的检查方法，该分离膜组件具备：具有多孔质基材和沸石膜的分离膜结构体、以及组装有分离膜结构体的壳体，其中，具备封入工序，该工序中，在沸石膜的一次侧封入检查用气体。检查用气体的动态分子直径大于沸石膜的细孔径的1.07倍。检查用气体具有如下特性，即，将分离膜结构体在25℃、0.1MPaG的检查用气体中静置了60分钟的情况下，沸石膜的CO₂气体透过速度降低率低于10％。

发明效果

根据本发明，可以提供一种能够抑制分离膜的透过性能降低且精度良好地检查气体泄漏的分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法。

附图说明

图1是分离膜组件的截面图。

图2是用于说明检查用气体的选择方法的示意图。

图3是用于说明检查用气体的选择方法的示意图。

图4是用于说明使用了检查用气体的检查方法的示意图。

图5是用于说明使用了检查用气体的检查方法的示意图。

图6是用于说明膜缺陷泄漏量计算式的取得方法的示意图。

图7是用于说明膜缺陷泄漏量计算式的取得方法的示意图。

具体实施方式

(分离膜组件10)

图1是分离膜组件10的截面图。分离膜组件10具备：分离膜结构体1以及壳体2。

1.分离膜结构体1

分离膜结构体1为整体型。所谓整体型是指：具有在长度方向上贯通的多个隔室的形状，且为包括蜂窝在内的概念。分离膜结构体1配置于壳体2的内部。

分离膜结构体1具有：多孔质基材11、以及作为分离膜的沸石膜12。

(1)多孔质基材11

多孔质基材11形成为在长度方向上延伸的圆柱状。在多孔质基材11的内部形成有多个隔室CL。各隔室CL在长度方向上延伸。各隔室CL与多孔质基材11的两个端面相连。