[发明专利]分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法有效
| 申请号： | 201880012747.5 | 申请日： | 2018-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN110430935B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 宫原诚;市川真纪子;谷岛健二;萩尾健史 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D65/10 | 分类号： | B01D65/10;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;G01N15/08 |
| 代理公司： | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人： | 王轶;郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分离 膜结构 检查 方法 组件 制造 | ||
1.一种分离膜结构体的检查方法，是具有多孔质基材和分离膜的分离膜结构体的检查方法，
包括：
检查用液体的选定工序，将所述分离膜结构体在所述检查用液体中浸渍60分钟后以150℃干燥24小时，选定所述分离膜的He气体透过速度降低率为10％以下的检查用液体，
检查工序，在所述检查工序中，对充满于所述分离膜的第1主面侧的检查用液体进行加压，
所述检查用液体为有机硅系液体。
2.根据权利要求1所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述检查工序中，基于所述检查用液体的压力变化而进行泄漏检查。
3.根据权利要求1所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述检查工序中，利用增压器对所述检查用液体进行加压，基于所述增压器的排出量、压缩量和直到加压结束为止的经过时间中的至少1项进行泄漏检查。
4.根据权利要求1所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述检查工序中，基于对充满于所述分离膜的第2主面侧的气体进行加压时的所述检查用液体中的发泡状况进行泄漏检查。
5.根据权利要求1～4中的任一项所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述检查用液体在25℃时的蒸汽压为1.0×103Pa以上。
6.根据权利要求1～4中的任一项所述的分离膜结构体的检查方法，其中，在所述检查工序之后包括干燥工序，在所述干燥工序中，使所述分离膜在O型环的耐热极限温度以下进行干燥。
7.根据权利要求1～4中的任一项所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述分离膜是SiO2／Al2O3为200以下的沸石膜。
8.根据权利要求7所述的分离膜结构体的检查方法，其中，所述检查用液体中的含水率小于20％。
9.一种分离膜组件的制造方法，包括：
组装工序，将具有多孔质基材和分离膜的分离膜结构体密封于壳体内；
检查用液体的选定工序，将所述分离膜结构体在所述检查用液体中浸渍60分钟后以150℃干燥24小时，选定所述分离膜的He气体透过速度降低率为10％以下的检查用液体；
检查工序，对充满于所述分离膜的第1主面侧的检查用液体进行加压，
所述检查用液体为有机硅系液体。
10.一种分离膜结构体的制造方法，包括：
分离膜形成工序，在多孔质基材的表面形成分离膜；
检查用液体的选定工序，将所述分离膜结构体在所述检查用液体中浸渍60分钟后以150℃干燥24小时，选定所述分离膜的He气体透过速度降低率为10％以下的检查用液体；
检查工序，对充满于所述分离膜的第1主面侧的检查用液体进行加压，
所述检查用液体为有机硅系液体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本碍子株式会社，未经日本碍子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880012747.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法
- 下一篇：半透膜支撑体
